型號 ：ZCL-700

一、真空室：

1. 形式：雙腔室結構，中間配置閘板閥。

 A、濺射室：700（寬）x700(深)x600mm(高)，後開門。配置3個 CF35法蘭，軸心指向工作台，用於觀測，觀測路徑上不得有阻（zǔ）擋;另（lìng）設置φ100mm觀測窗一個。

B、進料室：500（寬）x500(深)x600mm(高)，前開門。配置射頻離子源（清洗）和傳送機構，支持Φ250mm×20mm（高），重量≥2kg樣品的送入。

C、閘板閥：500x400mm.送料機構傳送。

2. 室體材料304不鏽耐酸鋼，內壁（bì）不鏽鋼拋光，外壁（bì）噴丸處理。

3. 含2套腔體防（fáng）汙板 （304材料）。

4. 樣片在上，磁控靶在上

5. 冷卻管道（dào）采用304不鏽鋼管。

6. 主機與（yǔ）電控櫃連接之電纜，應裝入線槽，且從上方通過。

7. 所有供水管均采用塑料高壓氣（qì）管，進、出水塑料高壓（yā）氣管采用（yòng）兩種不同顏色顯示。

8. 控電櫃采用縱櫃形式。

二、真空係統：

1．進料室：A.極限真空 ≤1.0x10-3pa，恢複真空： 大氣→9×10-1Pa ≤30min。

B.真空泵配（pèi）置：250分子泵 + GSD120B幹泵一（yī）台

C.送樣（yàng）係統 采用load-lock室送樣（yàng）係統，支持Φ250mm×20mm（高），重量≥2kg樣品的送入。

2．濺射室：A.極限真空 ≤5.0x10-5pa，恢複（fù）真空： 大氣→1.0×10-4Pa ≤40min

B.升壓率：≤5.0pa@12hours

C.真空泵配置：GSD120B幹泵一台（低噪音）+ 400分子泵一台

D.濺射真空（kōng）室抽氣速率45min內真空度≤1×10-4Pa 

E.濺（jiàn）射真空室升壓率 ≤5.0Pa@12hours

3. 真空係統測量：自動真空壓強控（kòng）製（zhì）儀；觀察窗口（kǒu）徑≥Φ80mm

4. 真空係統操作：自動/手動(PLC控製)

三、加（jiā）熱控溫係統：

  1.管狀加熱器加熱紅外輻射加熱，功率6Kw。

2.加（jiā）熱控製溫度範圍：室溫~300℃，分（fèn）辨率0.1℃，控溫精度：≤±2℃。

3.數字PID自動控溫係統，溫度可控（kòng）可調（測量位置：被鍍基片附近）；非接觸工件直接測溫，熱電偶控（kòng）溫。

四、工作台（基片台）

1.正置工（gōng）作（zuò）台1個，共聚（jù）焦濺射（shè）。工作台旋轉，3-30rpm無級變（biàn）速，速度連續可調。

工作（zuò）模式

全自動濺射：調取預存設置參數，濺射全程無需幹預（yù），支持999層膜層參數設置。

半自動（dòng）濺射：可單獨設置（zhì）全部控製參數，並執行濺射程序，中途可以中斷並修改參數並重新濺射。

手動濺射：點動控製各硬件模（mó）塊，進行濺射。

2.工件旋轉：自轉，轉速5~30rpm；可放置φ250mm樣（yàng）品一件。

3.濺射膜厚均勻區：不均勻（yún）性小於±5%@1μm，區（qū）域直徑≥200mm。

4. 濺射膜厚重複（fù）性：≥95%

5.加熱控溫係統采（cǎi）用電阻絲加熱（rè）；紅外輻射加（jiā）熱（rè），非接觸工件直接測溫，熱電偶控溫；加熱控製（zhì）溫度範圍（wéi）：室溫~300℃，分辨率（lǜ）0.1℃，控溫精度：≤±2℃。

6.工作台（tái）高度可調，以滿足靶基距離調整要求（qiú）。

五、磁控濺射靶及電源（yuán）（直徑6英吋磁控靶，濺射靶數量3個，角度（dù）可調）：

.直流濺射電源（3件）：3KW（恒流控製）；射頻（pín）電源（yuán）2件，1.5Kw。

2.濺射方式：由上（shàng）往下濺射；靶基間（jiān）距80-300mm可調，調節量（liàng）可控，分辨（biàn）率≤±1mm。

3.濺射材料：A.金屬：Au、Pt、Ti、Cr、Ni、W、Fe、Cu、Ag、Al、NiCr、NiSi

B.非（fēi）金屬：AlN、SiO2、Al2O3

4.每件靶（bǎ）上麵有氣動擋板，擋板可旋轉。

5.濺射模式 直流濺射/射頻濺射

6.功率（lǜ） 直流濺射功率（lǜ）≥1000W；射頻濺射功（gōng）率＞600W。

7.有效區域 ≥Φ250mm

8.濺射膜厚均勻性 不均勻性小於±5%@1μm 區域直徑≥200mm。

9.濺射膜厚重（chóng）複性 ≥95%

10.靶電極和（hé）冷卻水管須套在不鏽鋼管內；

11.磁控濺射靶的冷卻水做到（dào）隻要鍍膜開機抽真空，其冷卻水就暢通；

12.直流（liú）、射頻磁控電源能方便切（qiē）換（huàn）到需要（yào）工作的（de）磁控（kòng）濺射靶上，預濺射

正式濺射的時間能直觀地顯（xiǎn）示在觸摸（mō）屏上。

六、壓力控（kòng）製係統：

.自動壓（yā）強控製儀：控製範圍（wéi）5×10-2Pa（0.1Pa）～10 Pa可調，穩定控製精度±0.1Pa

2.氣路控製3路工藝氣體進氣，1路N2，1路Ar，1路O2，質量流量計（jì）控製氣體流量。

3.充（chōng）氣係統：配3隻日本山武（wǔ）質量流量（liàng）計。

4.氣路：全金屬管路，采用內壁拋光（guāng）不（bú）鏽鋼管。

七、清洗係（xì）統：

Load-lock室配置（zhì）IBD-RISE-12-HO射頻離子源，可對樣品進行射頻清洗。

八、計算機全自（zì）動控製係統：

1.控製方式：17”一體式（shì）工控（kòng）機電腦 + 工業（yè）控製PLC模塊（kuài）。

2.性（xìng）能：

1）可靠性：..的故障反饋及誤（wù）操作（zuò）互鎖保護功能，具備各係統的自診斷功能（néng）：設（shè）備一旦出現（xiàn）故障，自動存儲故障記錄，發出聲（shēng）光（guāng）報（bào）警，等待操作人員檢查（chá）處理；                             

2）自動化：可以實現（xiàn）從（cóng）排氣到（dào）濺射完成的一鍵（jiàn）控製，控製較為靈活。

3）用（yòng）戶可自行編寫濺射程（chéng）序，並由此濺射機自動實施。

3.濺射數據管理：

1）參數包括但不限以下：膜層（céng）的濺射（shè）氣壓、功率（電（diàn）壓、電流）、時間、溫度、基（jī）片台轉速等（děng）

2）真空度數據保存及曲線顯示；

4.工作模式：

1）全自動濺射：調取預存（cún）設置參數，濺射全程無需幹預，支持999層膜層（céng）參（cān）數（shù）設（shè）置。

2）半（bàn）自動濺射：可單獨設置全部控製參數，並執行濺射程序，中途可以中斷並修改參數並重新濺（jiàn）射。

3）手動濺射：點動控（kòng）製各（gè）硬件（jiàn）模塊，進行濺射。

每層膜（mó）層的濺射氣壓曲線、功率（電壓、電流）曲線、時間、溫度曲線（xiàn）、基（jī）片台（tái）轉速等參數並以數據表和圖片的形式導（dǎo）出，且界麵美觀。

4.濺射過程自（zì）動化，自動控製的主要內容：

1）具備..的故（gù）障反饋及誤操作互鎖保護功能以（yǐ）及各係統（tǒng）自診斷功能；

2）真空係統（tǒng）抽、排氣可編程設置，由工控電腦自動控製完成；

3）工件（jiàn）盤轉動的高，低速旋轉可編程設置；

4）氣（qì）體管路閥門及進氣量可編程設置；由工控電（diàn）腦自動控製壓控儀完（wán）成；

5）各個泵閥的控製由（yóu）PLC來自動（dòng）完成；

6）膜厚控製采用時間（jiān）功率方式進行，可顯示濺射時間及功率；

5.控製特點：

1）人機界麵為中文觸（chù）摸形式，可由觸（chù）摸屏或（huò）鍵盤和鼠標進行對（duì）話；

2）參數設置功能：時間、功率及相關（guān）參數；

3）可通過編程進（jìn）行（háng）參數設置，也可（kě）在電腦屏幕上直接輸入；

4）具有..的數據信息自動存（cún）儲功能，記（jì）錄文件可方（fāng）便的輸出；

5）記錄文件格式可轉換為Excell格式

6）整個工（gōng）作過程（chéng）自（zì）動儲（chǔ）存。

7）保護功能具備自鎖、互鎖安全保護措施

九、安裝要求：

1.環境溫度：10～35℃;

2.相對濕度：不大於80%；

3.設（shè）備（bèi）周圍環境整潔，空氣清潔，不應（yīng）有可引起電器及其他金屬表麵（miàn）腐蝕或引起（qǐ）金屬間導電的塵埃或氣體存在。

十一、設（shè）備動力要（yào）求：

1.水源（yuán）: 自來水循環，水壓0.2～0.3Mpa，水量～60L/min，進水溫度≤20℃～25℃；

2.氣源：氣（qì）壓0.6Mpa；

3.電源：三相五線製220V/380V，50Hz，電壓波（bō）動範圍：三相342～399V，單相198～231V；頻率波動範圍：49～51Hz；設（shè）備（bèi）功率：～20KW；接地電阻4Ω；

十一、設（shè）備（bèi）總尺寸：＜2.5m(長（zhǎng）) x 1.5m(寬) x 2.0（高）