G-33E4型高精密光刻機

產品介紹：

設備（bèi）概述

本設備廣泛用於各大、中、小型企業、大專院校、科研單（dān）位，主要用於集成電路、半（bàn）導體元器件、光電（diàn）子器件、光學（xué）器件研製和生（shēng）產,由於本機（jī）找平機構**，找（zhǎo）平力小，使本機不僅適合矽片（piàn）、玻璃片、陶瓷片的曝光（guāng），而且也適合易碎（suì）片如砷化鉀、磷化銦等基片的曝光, 這是一台雙麵（miàn）對準單麵曝光的光（guāng）刻（kè）機,它不僅能完成普通光刻機的（de）任何工作,同時還是一台檢查雙麵對準精度的檢查儀。

主要構成

曝光（guāng）頭及部件圖

CCD顯微係統|X、Y、Q對準工作台

適用於110mm×110mm以下、厚度(包括非圓形基片

采（cǎi）用版不動，片動的下置式三層導軌對準（zhǔn）方式，使導軌（guǐ）自重和受力方向保持一致，自動消除間隙；承片台升降采用無間隙滾珠直進導軌、氣動式

4.可靠性高
采用PLC控製（zhì）、進口（kǒu）（日本產）電磁（cí）閥和按鈕、獨特的氣動係統、真空（kōng）管（guǎn）路係統和經過精密機械製造工藝（yì）加工的零件，使（shǐ）本機（jī）運行具有非常高的可靠性且操作、維護、維修簡（jiǎn）便。

5. 特設功能
除標準承（chéng）片台外，我公司還可（kě）以為用戶定製專用承片台，來解決非圓形基片、碎片和底麵不平的基片（piàn）造成的版片分離不開所引起的版片無法對準的問題。

（1）高均（jun1）勻蠅眼曝光頭。

a.采（cǎi）用350W直流高壓球形汞燈；

b.曝光（guāng）麵積：110mm×110mm；

c.曝光強度：≥20mW/cm²汞燈（進（jìn）口）；

d.光源平行性：≤3.5°；

e.照明不均勻性（xìng）： ±3%（ Φ100mm範圍）；

g.套刻精度：1μm

（2）觀察係統為上下各兩（liǎng）個無（wú）級變倍、高分（fèn）辨率單筒顯微鏡上裝四個CCD攝像頭通過視屏線（xiàn）連接計算機到19″高清液晶顯視屏上。

a. 單筒顯（xiǎn）微鏡（jìng）為1.6X～10X連續變倍顯微鏡；

b. CCD攝像機（jī）靶麵對角線尺寸為：1/3″；

c. 采用19″液晶監視器（qì），其數字放大倍率為19÷1/3=57倍；

d. 觀察係統（tǒng）放大倍數為：1.6×57=91倍（*小倍數）

10×57=570倍（*大倍數）；