四川磁控濺射鍍膜機的產品（pǐn）介紹：

一、用途：

磁控濺射鍍膜設備主要用於在基片上鍍製金屬、半導體、電（diàn）介質、多元素（sù）化（huà）合物或混合物。利用濺射法（fǎ）可製備金屬膜、半導體（tǐ）膜、絕緣膜（mó）、硬質膜、耐熱膜、耐腐蝕（shí）膜、超導（dǎo）膜、磁性膜、光學膜等各種特殊性能的薄膜。

二、產品特點：

基片尺寸適應（yīng）範圍廣（guǎng），可鍍製多種材料，工藝可控性好、靈活性強、重複性高（gāo）、基片溫升小、膜層附著力強，計（jì）算機全自動控製，可靠性（xìng）高。且安裝維修方便，占地位（wèi）置小。

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