G-33E4型高精密光刻機

產（chǎn）品介紹：

設備概述

本設（shè）備廣泛（fàn）用於各大、中、小型企業、大專院校、科研單位，主要用（yòng）於集成電路、半導體元（yuán）器件、光電子器件、光學器件研製和生產（chǎn）,由於本機找平機構**，找平力（lì）小，使本（běn）機不（bú）僅（jǐn）適合矽片、玻璃片、陶瓷片（piàn）的曝光，而且也適合易碎片如砷化鉀、磷（lín）化銦（yīn）等基片的曝光, 這是一台雙麵對準單麵曝光（guāng）的（de）光刻機,它不僅能完成普通光刻（kè）機的任何工作,同時還是一台檢查（chá）雙麵（miàn）對準精度的檢查儀。

主要構成

曝光頭及部件圖

CCD顯微係統|X、Y、Q對準工作台

適用於110mm×110mm以下、厚（hòu）度(包（bāo）括非（fēi）圓形基片

采用版不動，片動的下置式三層導（dǎo）軌對準方式，使導軌（guǐ）自重和受力方向保持一致，自動消（xiāo）除（chú）間隙；承片台升降采用無間隙滾珠（zhū）直進導軌、氣動式

4.可靠性高
采用PLC控製、進口（日本產）電磁（cí）閥和按鈕、獨特（tè）的氣動係統、真空管路係統和經過（guò）精密機械製造工藝加工的零件，使本（běn）機運行具有非常高的可靠（kào）性且操作、維護、維修簡便。

5. 特設功能（néng）
除標準承片台外，我公司（sī）還可以為用（yòng）戶（hù）定製專用承片台，來解決非圓形基片、碎片和底麵不平的基片造成的版片分離不開所引起的（de）版片無法對準的問題。

（1）高（gāo）均勻蠅眼曝光頭。

a.采用350W直流高壓球形汞燈；

b.曝光（guāng）麵積：110mm×110mm；

c.曝光強度：≥20mW/cm²汞燈（進（jìn）口）；

d.光源平行性：≤3.5°；

e.照明不均勻性： ±3%（ Φ100mm範圍）；

g.套刻精度：1μm

（2）觀（guān）察係統為（wéi）上下各兩個無級變倍、高分（fèn）辨率單（dān）筒顯微鏡上裝四個CCD攝像頭通過視屏線連接計算機到19″高清液（yè）晶顯視屏上。

a. 單筒顯微鏡為1.6X～10X連續變（biàn）倍顯微鏡；

b. CCD攝像機靶麵（miàn）對角線尺（chǐ）寸為：1/3″；

c. 采（cǎi）用19″液晶監視器，其數字放大倍率為（wéi）19÷1/3=57倍；

d. 觀察係統放大倍數為：1.6×57=91倍（*小倍數）

10×57=570倍（*大倍數）；