G-43B4型高（gāo）精密單麵光刻機產品介紹：

設備概述:

本設備是（shì）我公司根據市場需求（qiú）研發的產品，通常情況下可曝光基片尺寸為：Φ4"，對被光刻基片的外形、厚度要求較低，可對多種材料的基片進行光刻，它特別適用做一次光刻的（de）產品，可製作聲表麵器件、可控矽、小液晶顯示器、傳感器（qì）、二極管、園光柵、編碼盤等，此設備光的（de）均勻性非常好（在Φ100範圍內≤±4%），所以大大提高了設備的（de）光刻質量。

主要構成
主（zhǔ）要由防震工作台、高均勻性曝光頭、氣動係統、電氣控製係統、真（zhēn）空管路（lù）係統、直聯式真空泵及附件（jiàn）箱等組成。

曝光頭及部件圖

主要功（gōng）能特點

1.適用範圍廣
適用於Φ100mm以下，厚度5mm以下的各種基片（piàn）(包括非圓形基片)的（de）一次曝光。
2.結構穩定
本（běn）設（shè）備配置有可（kě）實現（xiàn）真空硬（yìng）接觸、軟接觸、微力接觸（chù）的真空密著機構；具有真空掩膜版架、真空片吸盤。
3.操作（zuò）簡便
本設備操作簡單，調試、維護、修理等（děng）都非常簡便。
4.設備運行（háng）穩定、可靠
采用進口（kǒu）電磁閥、按鈕、定時器；采用獨特的氣動（dòng）係統、真空管路係統和精密的機械零件，使本機具有非常高的可靠性。
5.特設（shè）功能
除標準承片台外，還可以為用戶（hù）定製專用承（chéng）片台，來（lái）解（jiě）決非圓形基片、碎片和底麵不（bú）平的基片造成的版片分離不開所引起的版片無法對準的問題

主要技術指標

1．操作方式（shì）：手動；

2．曝光模式（shì）：接觸式曝光；

3．曝光麵積：Φ4"；

4．紫外光源：g線（436nm）或i線（365nm）；

5.曝光分辨率：3um；

6．曝光頭汞燈為（wéi）GCQ350W型**壓直流球形汞燈。