G-43B6型高（gāo）精密單麵光刻機

產品介紹：

設備概述:

本設（shè）備是（shì）我公司根據市場需求研發的產品，通常情況下可（kě）曝（pù）光基片尺寸為：Φ6"，對被光刻基片的外形（xíng）、厚度要求較低，可對多（duō）種材料（liào）的基片進行光刻，它特別適用做一次（cì）光刻的產品，可製作聲表麵器件、可控矽、小液晶（jīng）顯示器、傳感器、二極（jí）管、園光柵、編碼盤等（děng）。加之光均勻性好（Φ150mm範圍內≤±6%），所以大大提高了設備的（de）光刻質量

主要構成
主要由（yóu）防震工作台、高均勻性曝光頭、氣動係統、電氣控（kòng）製係（xì）統、真空管路係統、直聯式真空泵及附件（jiàn）箱等組成。 1. 適用範圍廣Φ150mm以下，厚度(包括非圓形基片

本設備配置有可實現真（zhēn）空硬接觸、軟接觸（chù）、微力接觸（chù）的真空密著機構；具有真空掩膜版架、真空片吸盤。3. 操作簡便

采用進口電磁閥（fá）、按鈕、定時（shí）器；采用獨（dú）特的氣（qì）動係統、真空管路係統和精密的機械（xiè）零件，使本（běn）機具有非常高的（de）可靠性。5. 特設功（gōng）能

主要技（jì）術參數：

1、操（cāo）作方式（shì）：手動；

2、曝光（guāng）模式（shì）：接觸式曝（pù）光；

3、出射光斑≤φ150mm；

4、紫外光源：g線（436nm）或i線（365nm）；

5、光強（qiáng）≥5mw/cm²（i線365nm; h線405nm; g線453nm的組合紫外光（guāng））；

6、曝光分辨率：3um；

7、曝光頭汞燈為（wéi）GCQ350W型**壓直流球形汞燈。