單（dān）麵（miàn）光刻機也屬於四（sì）川光刻機的一（yī）種，下麵小編為大家介紹一（yī）下單麵光刻機的主要構成和特點是什麽（me）？

1、適用於4″、3″、2″基片，基片厚度≤1.5mm 。

2、具（jù）有相（xiàng）對應的版夾盤，□5″×5″、□4″×4″、□2.5″×2.5″。

3、調密著真空度，能實（shí）現硬接觸（chù）、軟接觸和微力接觸曝光。

4、采（cǎi）用鷹眼曝光頭（tóu），光的不均勻性≤±3%，曝光時（shí）間0～9999.9秒可調。

5、具有預定位靠尺：利用基（jī）片切邊進行定位，定位精度≤1微米 。

6、具有雙工作承（chéng）片台，利用曝光時間，進行卸片、上片（piàn）工作。

主要用途（tú）

主要用於（yú）中（zhōng）小規模集（jí）成電路、半導體元器件、聲表（biǎo）麵波器件的研製和（hé）生產。

由（yóu）於本機找平機構**，找平力小、使本機不僅適（shì）合矽片、玻璃片、陶瓷片、寶石片的曝光，而（ér）且也適合易碎片如砷化（huà）鉀、磷化銦等基片的曝光以（yǐ）及非圓形基片和小型基片的曝（pù）光。

主要構成（chéng）

主要由高精度對準（zhǔn）工（gōng）作台、雙目分離視場顯微鏡(或CCD顯微顯示係統)、多點（diǎn）光源（yuán）（蠅眼）曝光頭（tóu）、PLC電控係統、氣動係統、真空管路係統、直聯（lián）式真空泵、二級防震工作（zuò）台和附（fù）件箱等組成。

希望（wàng）以上關於四（sì）川（chuān）光刻機的介紹對你有（yǒu）所幫助，更多（duō）信息請持續關注鑫南光官網信息更新（xīn）。