鑫南光公司小編為大家介紹關於成都（dōu）光刻機的產品（pǐn）特點：

一（yī）、主要用途

本設備是我公司針對各大專院校及科研（yán）單位對光刻機的（de）使（shǐ）用特性專門研發（fā）的一種精（jīng）密（mì）光刻（kè）機，它 主要用於中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表麵波器件的研製（zhì）和生產。

二、主要（yào）構成

主要由高精度對準工作台、雙目分離視場CCD顯微顯示係統、曝光頭、氣動係統、真空管路係統、直聯式真空泵、防震工作台和附件箱等組成。

三、主要功能特（tè）點 :

1.適用範（fàn）圍廣:

適用於Φ100mm以下，厚度5mm以（yǐ）下的（de）各種基（jī）片(包括非圓形基片)的（de）對（duì）準曝光。

2.結構穩定

具有半球式（shì）找平機構和可實現真（zhēn）空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機構；具  有（yǒu）真空掩膜版架、真空片吸盤（pán）。

3.操（cāo）作簡便

采用翻板（bǎn）方式取片、放片；按鈕、按鍵方（fāng）式操作，可實現真空 吸版、吸片、吸（xī）浮（fú）球、吸掃描鎖等功能，操作（zuò）、調試、維護、修理 都非常簡（jiǎn）便。

4.可靠性高

采（cǎi）用進口電磁閥、按鈕、定時器（qì）；采用獨特的（de）氣動（dòng）係統、真空管路係（xì）統和精密的機械零件，使本機具有非（fēi）常高的可靠性。

5.特設“碎片”處（chù）理功能

解（jiě）決非（fēi）圓形基片、碎片和底麵不平的（de）基片造成的版片分離不開所引起的版片（piàn）無法對準的問（wèn）題。

四、主要技術指標:

1、曝光頭:采用蠅眼曝光頭

2、曝光類型：單麵

3、曝光（guāng）麵積：φ100mm

4、光束不平行度：≤6°

5、曝光不均勻性：≤±3%

6、掩模版尺寸：2.5″×2.5″、4″×4″、 5″×5″

7、基片尺寸：φ2″、φ3″、φ4″

8、基片厚度（dù）：≤5 mm

9、曝（pù）光強度：≥5mw/cm²

10、曝光分辨率：≤1.0μm

11、曝光模式：套刻曝光

12、對準精度：1μm

13、掃描範圍：X：±40mm   Y：±35mm

14、對準範圍：承片台相對於版運動為：

①x、y±5mm運動，放大比為400:1；

②Q轉動為±5°；③Z軸運動≤4mm；

15、密著（zhe）曝光方式：密著曝光可實現硬接觸、軟接觸和微（wēi）力接觸曝光；

16、顯微係統：雙視場CCD係統；連續可調（物鏡0.7～4.5倍連續可調）；

計（jì）算機圖像處理係統；

17、曝光燈功率：直流350W

18、曝光定時：0～999.9秒可調

19、電源：AC220V 50Hz 1kW

20、空氣：P≥0.1MPa，耗（hào）氣量0.2m³小時；

21、真空度：-0.07MPa～-0.09MPa

22、外（wài）形尺寸：918×680×1450(L×W×H)mm

23、重量：～160kg

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