鑫南光小編為大家介紹四川精（jīng）密（mì）光刻機產品介紹：

一、主（zhǔ）要用途：

本設備用於中小（xiǎo）規模集成電路、半導體元（yuán）器件、聲（shēng）表麵波器件研製和生產。找平機構穩定性（xìng）高，找（zhǎo）平力小。且（qiě）應對特殊基片表現卓越，如易碎的砷化鉀、磷化銦等基片，以及非（fēi）圓形、小型基片時，可憑借找平力小的優勢，能不損壞基片順利曝光且滿足曝（pù）光需求。

二（èr）、主要技術參數 ：

1.適（shì）用於對Φ4″以下（xià）隻需一次曝光的各種基片進行曝光，基片厚度要求0～5mm。

2.光源采（cǎi）用200W直流汞燈，曝光頭光束不均勻性≤±6%（Φ100mm範圍以內）。

3.采用時間繼電器（qì）（可調節）控製曝光頭的快門。

4.具有兩個真空密著承（chéng）片台（一個在（zài）曝光時，另一個可進行上下片的操作（zuò）），根據（jù）用戶需求，我公司可製作圓形或方形（xíng）真空密著承片台。

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