成都鑫南（nán）光機械設備有限公司小編為大家介紹四川光科技的組成以及（jí）工（gōng）作原理：

光刻機通過一係列的（de）光源能量、形狀控製手段，將光束透（tòu）射過（guò）畫著線路圖的掩模，經物鏡補償各種光學（xué）誤差，將線（xiàn）路圖成比例縮（suō）小後（hòu）映射到矽片上，不同光刻機的（de）成像比例不同，有5:1，也有4:1。然後使用化學方（fāng）法顯影（yǐng），得到（dào）刻在矽片上的電路圖（tú）（即芯片）。

一般的光（guāng）刻工藝要經（jīng）曆矽片表麵清洗烘幹、塗底、旋塗光刻膠、軟烘（hōng）、對準（zhǔn）曝光、後烘、顯影、硬烘、激光刻（kè）蝕等工序。經（jīng）過一次光刻的芯片可以繼續塗膠、曝光（guāng）。越複雜的芯片，線路圖的層數越多，也需要（yào）更精密的曝光控製過程。現在**的（de）芯片有30多層。

測量台、曝光台：承載（zǎi）矽片的工作台（tái），也就是本次所（suǒ）說的雙工作台。

光束矯正（zhèng）器：矯正光束入射方向，讓激光束盡量平行。

能量控（kòng）製器（qì）：控製*終照射到（dào）矽（guī）片上的能量，曝光不足或過足（zú）都會嚴重影響成像質量。

光束（shù）形狀設置：設置光束為圓型、環型等不同（tóng）形狀，不同的光束狀態有不同的光學特性（xìng）。

遮光（guāng）器：在不需要曝光的時（shí）候，阻止（zhǐ）光束照射到矽片。

能量探測器：檢測光束*終入（rù）射能（néng）量是否符合曝光（guāng）要求，並（bìng）反饋給能量控製器進行調整。

掩模版：一塊在內部刻著（zhe）線路（lù）設計圖的玻璃板，貴的要數十萬美元。

掩膜台：承載掩模版（bǎn）運動的設備，運動控製精度是（shì）nm級的。

物鏡：物鏡由20多塊鏡片（piàn）組成，主要作用是把掩膜（mó）版上的電路圖按比例縮小，再被激光映射的矽片上，並且物鏡還要補償各種光（guāng）學誤差。技（jì）術難度就在於物（wù）鏡的設計難度（dù）大（dà），精度的要求高。

矽片（piàn）：用矽晶製成的圓片。矽片有多種尺（chǐ）寸，尺寸越（yuè）大，產率越高。題外話，由於矽片是圓的，所以需要在矽片上（shàng）剪一個缺口來確認矽片的坐標係，根據缺口的形狀不同分為兩種，分別叫flat、notch。

內部封閉框架、減振器：將工作台與外部（bù）環境隔離，保持水平，減少外界振動幹擾，並維持穩定的溫度、壓力。

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