G-25XA型（xíng）高（gāo）精密光刻機（jī）

設備概述:

本設備是我公（gōng）司專門針對各（gè）大專院校及科研單位（wèi）對光刻機的使用特性研發的一種精密光（guāng）刻機（jī），它（tā）主要用於中小規模集成電路、半導（dǎo）體元器件、光電子器件、聲表麵波器件的研製和生產。

主要構成
主要由高精度對準工作台、雙目分離（lí）視場CCD顯微顯示係統、GCQ350Z型高壓水（shuǐ）銀直流汞、氣動係統、真空管路（lù）係統、直聯式真空泵、防震（zhèn）工作台和附件箱等組成。<span style="font-family:" font-weight:normal;"="">

多（duō）點光（guāng）源（蠅眼）
可調光強的光欄

三點找平機構
高精度X、Y、Z、Q調節機構

主要功能特點

1.適用範圍廣
  適用（yòng）於Φ100mm以下，厚度5mm以下的各種基片(包（bāo）括非圓形基片)的對準曝光。
  2.結構穩定
  具有氣浮式找平機構（gòu）和可實（shí）現真空硬接觸、軟（ruǎn）接觸、微力接觸（chù）的（de）真空（kōng）密著機構；具有真空掩膜（mó）版（bǎn）架、真空（kōng）片吸盤。
  3.操作簡便
  采用翻板方式取（qǔ）片、放片（piàn）；按鈕、按鍵方式操作，可實現真空吸版、吸片、吸浮球、吸掃描鎖（suǒ）等功能，操作、調試、維（wéi）護、修理（lǐ）都非常（cháng）簡便。
  4.可靠（kào）性高
  采用進口（日本產）電磁（cí）閥、按鈕、定時器；采用獨特的氣動係統、真空管路（lù）係統和精密的機械零件，使（shǐ）本（běn）機運行具有非常高的可靠性。
  5.特設功能
  除標（biāo）準承片台外，還可以為用戶定製專用承片台，來解決非圓形基片、碎片和底麵不平的基片造成的版（bǎn）片分離不開所引起的版片無法對準的問題

主要（yào）技術指標

1、設備（bèi）能真空吸附（fù）5"×5"方形掩板（bǎn）,對版的厚度（dù）無特殊要求。

2、設備能適用於Φ100mm圓形基片（或100×100mm方形（xíng）基片），基片（piàn）厚度≤5mm,當您的基片厚度≤1mm時，我公司為（wéi）本機配置標準承片台（不另計費），當基片厚度＞1mm時，設備需配置專用承（chéng）片台（訂貨（huò）時用（yòng）戶須說明，費用（yòng）另議）。

3、照明：

光源：GCQ350Z型高壓水銀直（zhí）流汞（gǒng）。

照明（míng）範圍：≤ф117mm曝光（guāng）麵積：Φ100mm

在Φ100mm範圍內,曝光不均勻性≤±4%，曝光強度：≥5mw/cm²（此指標用紫外光源I線365nm測量）。

4、本設備采用進口（kǒu）時間（jiān）繼電器（qì）控製氣（qì）動快門，動作準確、可靠。

5、本機為接觸（chù）式曝光機，可（kě）實現：

（1）硬接觸曝光：用管道真空來獲得高真空接觸（chù），真空≤-0.05MPa。

（2）軟接觸曝（pù）光：接觸壓力可將真空降到-0.02MPa～-0.05MPa之間。

（3）微力接觸（chù）曝光：小於軟接觸，真空≥-0.02MPa。

6.曝光分辯率：本設備硬接觸曝光的分辨度可達2μm以（yǐ）上。

7.對準：觀察係統為兩個單筒顯微（wēi）鏡上裝二（èr）個CCD攝像頭，通過視屏線連接到顯視屏上。

成都鑫南光機械設備（bèi）有限公司是一（yī）家專業從事四川真空泵,四川光（guāng）刻機,四川氫氣（qì）爐生產及銷售（shòu）批發工作的企業,谘詢電話:13908187709,028-85730519,擁有技術裝備和獨特的設計,具有豐富的專用（yòng）設備裝配調試技（jì）術和經（jīng）驗。