G-25X型高精密（mì）光刻（kè）機

產（chǎn）品介紹：

本設備是（shì）我公司專門針對各大（dà）專院校及科研單位對光（guāng）刻機的使用特性研發的一種高精密光刻（kè）機，它主要（yào）用於中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表麵波器件的研製和生產。

主要構成

主（zhǔ）要由高精（jīng）度對準工作台、雙目分離視場CCD顯微顯示係統、曝光頭、氣動係統、真空管路係統、直聯式真空泵、防震工作台和附件箱等組成。

多點光源（蠅眼）三點找平機構

可調光強的光欄高精（jīng）度X、Y、Z、Q 調節機構

主要功能特點

1. 適用範圍廣

適用於Φ100mm以下，厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的對（duì）準曝光。

2. 結（jié）構穩定

具有氣浮式找平機構和可實現真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密（mì）著機構；具有真空掩膜版架（jià）、真空（kōng）片吸盤。

3. 操作簡便

采（cǎi）用翻板方式取（qǔ）片、放片；按（àn）鈕、按鍵方式操作，可實現（xiàn）真空吸版、吸片、吸浮球、吸掃描鎖等功能，操作、調試、維護、修理都非（fēi）常簡便。

4. 可靠（kào）性高

采用進口電磁閥、按（àn）鈕、定（dìng）時器；采用獨特的氣動係統、真空管路係統和精密的機械零件，使本機具有非常高的可靠性。

5. 特設功能

除（chú）標準承片台外，還可以為（wéi）用戶定製專用承片台（tái），來（lái）解決非圓形基片、碎片和底麵（miàn）不平的（de）基片造成的版（bǎn）片分離（lí）不開所引（yǐn）起的版片無法對準的問題

主要技（jì）術指標

1. 設備能真空吸（xī）附5"×5"方形掩板,對版的厚度無（wú）特（tè）殊要求（1～3mm皆可）。

2. 設備能適用於Φ100mm圓形基（jī）片（或100×100mm方形基片），基片厚度≤5mm,當您的（de）基片厚度≤1mm時，我（wǒ）公司為本機配置標準承片台（不另計費），當基片厚度＞1mm時，設（shè）備需配置專用承片台（訂貨時用戶須說明，費（fèi）用（yòng）另議（yì））。

3. 照明：

光源：采用（yòng）GCQ350Z型高壓水銀（yín）直流汞。

照（zhào）明（míng）範圍：≤ф117mm曝光麵積：Φ100mm在Φ100mm範圍內,曝光不均勻性≤±4%，曝光強度：≥6mw/ cm2（此指標用（yòng）紫外光源I線365nm測量）。

4. 本設備（bèi）采用進口時間繼電器控製氣動快（kuài）門，動作準確、可靠。

5. 本機為接觸式（shì）曝光機，但可實（shí）現：

a. 硬接觸曝（pù）光：用（yòng）管道真（zhēn）空來獲得高真空接觸，真空≤-0.05MPa。

b. 軟接觸（chù）曝光：接（jiē）觸壓力可將真空降到-0.02MPa ～ -0.05MPa之間。

c. 微力接觸曝光：小於軟接觸，真空≥-0.02MPa。

6. 曝光分辯率：本設備硬接觸曝光的分辨度可達1μm以（yǐ）上。

7. 對準：觀察係統為兩個單筒顯微（wēi）鏡上裝二個CCD攝像頭，通過視屏線連（lián）接到顯視（shì）屏上。

更多關於（yú）四川光刻機的信息可以直接撥打網站上的（de）谘（zī）詢電（diàn）話和91视频网站取得（dé）聯係。