G-25D4型高精密光（guāng）刻機

設備概述（shù）:

本設（shè）備是我公司專門針對各大專院校及科研單位對光刻機（jī）的使用特性研發的一種精密光刻機，它（tā） 主要用於中小規（guī）模集（jí）成電路、半（bàn）導體元器件（jiàn）、光電子器件、聲表麵（miàn）波器（qì）件的研製（zhì）和生（shēng）產（chǎn）。

主要構（gòu）成
主要由高精度對準工作台、雙目（mù）分離（lí）視場CCD顯微顯示係統、LED曝光頭（tóu）、PLC電控係統（tǒng）、氣動係統、真空（kōng）管路係統、直聯（lián）式（shì）真空泵、二級防震工作台和附件箱等組成（chéng）。

主要功能特點

1.適用範圍廣
適用於Φ100mm以下，厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的對準曝光。
2.結構穩定
具有氣浮式找平機構和可實現真空硬接（jiē）觸、軟接觸、微（wēi）力接觸的（de）真空（kōng）密著機構；具（jù）有真空掩膜版架（jià）、真（zhēn）空片吸盤。
3.操作簡便
采用（yòng）翻板方式取（qǔ）片（piàn）、放片；按鈕、按鍵方（fāng）式操作，可實現真空（kōng）吸版、吸片、吸浮球、吸掃（sǎo）描鎖等功能，操作、調試、維護、修理（lǐ） 都非常簡（jiǎn）便。
4.可靠性高
采用進口電磁閥、按（àn）鈕、定時器；采（cǎi）用獨特的氣動係統（tǒng）、真空管路係統和精密的（de）機械零件，使（shǐ）本（běn）機具有非（fēi）常高的可靠性。

5.特設功能
除標準承片台外，還可以為用戶定製（zhì）專用承（chéng）片台，來解決非（fēi）圓形基片、碎（suì）片（piàn）和底麵不平的基片（piàn）造成的版片分離（lí）不開所引起的版片無法對準的問題。

主（zhǔ）要技術指標：

1、曝（pù）光（guāng）類型：單麵；配置4"LED專用曝光（guāng）頭（tóu）

2、曝光麵（miàn）積：110×110mm；

3、曝光照度不均勻性：≤±3%；

4、曝光強度：0～30mw/cm²可調；

5、紫外光束角：≤3°；

6、紫外光中心波長：365nm；

7、紫外光源壽命：≥2萬小時；

8、采用電（diàn）子快門；

9、曝光分辨（biàn）率：1μm

10、顯微鏡掃描（miáo）範圍：X： ±15mm   Y：±15mm；

11、對準範圍：X、Y 調節 ±4mm；Q向調節±3°；

12、套刻精度：1μm；

13、分離（lí）量；0～50μm可調；

14、曝光方式：接觸（chù）式曝光，可實現硬接觸、軟接觸和微力接觸曝（pù）光；

15、找平方式：氣浮找（zhǎo）平；

16、掩模版尺寸：≤127×127mm；

17、基片尺寸：≤Φ102mm(或者102×102mm)；

18、基片厚度：≤5 mm；

19、曝光定時：0～999.9秒可調；