G-30D4型高精密單麵光刻機

設（shè）備概述:

本（běn）設備為（wéi）我公司專門針對各大、中、小型企業的使用特性而研發的一種高精密雙（shuāng）麵（miàn）光刻機，它主要用於中小規模集（jí）成電路、半導體元器件、聲（shēng）表麵波器件的研製和生產,它具有生產效率高、結構簡（jiǎn）單、操作維護方便等優勢（shì），本（běn）機不（bú）僅適合4英寸以下各（gè）型基片的曝光，也適合易碎片如砷（shēn）化（huà）鉀、磷化銦（yīn）等基片的曝光以及（jí）非圓形基片和小型基片的曝（pù）光。 主要由防（fáng）震工（gōng）作台、LED專用曝光頭、氣動係統、電氣控製係統、真空管路係統、直聯式真空泵及附件箱等組成。

曝光頭及部件圖

主要功能特（tè）點

Φ100mm以下，厚度（dù）(包括非圓形基片

2. 結構穩（wěn）定

有真空掩膜版架、真（zhēn）空片吸盤。

本設（shè）備操作簡單，調試、維護、修理等都非（fēi）常簡便。  

采用進口電磁閥、按（àn）鈕、定時器；采用獨特的氣（qì）動係統、真空管路係統和精密的機械