G-31B4型高精密光刻機

產品（pǐn）介紹：

設備概述

本設備廣（guǎng）泛用於各大、中、小型企業、大專院校、科研單位，它主要用於中小規模集成電路、半導體元器（qì）件、光電子器件、聲表麵（miàn）波器（qì）件（jiàn）、薄膜電路、電力電子器件的研製和生產。

主要構成 本設備（bèi）為板板對準（zhǔn）雙麵曝光CCD顯微顯（xiǎn）示係統、二台（tái）高均勻性曝光頭、Z軸升降機構（gòu）、真空（kōng）管路係統、氣路係（xì）統、直聯（lián）式真空泵（bèng）、二級防震工作台等組成。

1.適用範圍廣
適用於φ100mm以下、厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的對準（zhǔn）曝光（guāng），雙麵可同時（shí）曝（pù）光，亦可用於單麵曝光。

2.結構穩定
Z軸采用滾珠直進式導（dǎo）軌和可實現硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機構，真空吸版，防（fáng）粘片機構。

3.操作簡便
X\Y移動、Q轉、Z軸升降采用手動方式；
吸版、反吹采用按鈕方式，操（cāo）作、調試、維護（hù）、修（xiū）理都非常簡（jiǎn）便（biàn）。 4. 可靠性高

精密的機（jī）械零件，使本機運行具有非常高的可靠性（xìng）。
    除標準承片台外，還可以為用戶（hù）定製專用（yòng）承片台，來解決非圓形基片、碎（suì）片和底麵（miàn）

曝光類（lèi）型：版
曝光麵積（jī）：≤±3%
曝光強度：
曝光分辨率：2台GCQ350W型**壓直流球形汞燈高均勻性曝光頭

對準範圍：2μm

Q向旋轉調節≤

CCD係統，物鏡10X，計算機圖像處理係統，
掩模版尺寸：能真空吸附4"方形掩板，對版（bǎn）的厚度無特殊要求（qiú）（1～3mm皆（jiē）可）。

<span style="line-height:150%;font-family:;" "=""> 基片尺寸：適用於Φ3"mm圓（yuán）形基片（或3"×3"mm方形基片），基片厚度≤5mm。