G-33D4型高精密光刻機（jī）

產品介紹：

設備概述

本（běn）設備廣泛用於各大、中、小型企業、大專院校、科研單位，主要用於集（jí）成（chéng）電路、半（bàn）導體（tǐ）元器件（jiàn）、光電子器件（jiàn）、光學器（qì）件研製和生產,由於本機找平機（jī）構**，找平力小，使（shǐ）本機不僅適合矽片、玻璃片、陶瓷片的曝光，而且也適合易碎片如砷化鉀、磷化銦等基片的曝光, 這是一台雙麵對準單麵（miàn）曝光的光刻機,它不僅能完成普通光刻機的任（rèn）何工作（zuò）,同時還是一台檢查（chá）雙麵對準（zhǔn）精度的檢查儀。

主要（yào）構成LED專用（yòng）曝光頭、

  主要功能（néng）特點

（1）4″LED紫外專用曝光（guāng）頭

（2）曝光麵積（jī）：110mm×110mm；

（3）曝（pù）光強度：0～30mw/cm²可（kě）調；

（4）紫外光束角：≤3°；

（5）照明不均勻性： ≤3%；

（6）紫外（wài）光源壽命（mìng）：≥2萬小時；

（7）采用電子快門；

（8）套刻（kè）精度：1μm

（9）觀察係統為上下各兩個（gè）無級變倍、高分辨率單筒顯微鏡（jìng）上（shàng）裝四（sì）個CCD攝像（xiàng）頭通過視屏線連接計算機到19″高清液晶顯視屏上。

a、 單筒顯微鏡為（wéi）1.6X～10X連續變倍顯微鏡；

b、CCD攝像機靶麵（miàn）對角線尺寸為：1/3″；

c、 采（cǎi）用19″液晶監視器（qì），其數字放大倍率為19÷1/3=57倍；

d、觀察係統放大（dà）倍數為：1.6×57=91倍（bèi）（*小（xiǎo）倍數）

10×57=570倍（*大倍數）；