G-33E6型高精（jīng）密光刻機

產品介紹：

設備概述

本設備廣（guǎng）泛用於各大（dà）、中、小型企業、大專院校、科研單位，主要用於集成電（diàn）路、半導體元（yuán）器件、光電子器件、光學器件研（yán）製和生產,由於本機找平（píng）機構（gòu）**，找平力小，使本機不僅適合矽片、玻璃片、陶瓷片的曝光，而且也適合易碎片（piàn）如砷化鉀、磷（lín）化銦等基片（piàn）的曝光, 這是一台雙麵對準單麵曝光的光刻機,它不僅能完成普（pǔ）通光刻機的任何工作,同時還是一台檢查雙麵對準精度的檢查儀。

主要構成

主要由高精度（dù）對準工作台（tái）、雙目分離視場立式顯微鏡（jìng）或（huò）雙目分離視場臥式顯微鏡、數字式攝像頭、計算機成象記憶係統、6″高（gāo）均勻性蠅眼專用曝光頭、

主要功能特點

采用（yòng）版不動，片（piàn）動（dòng）的下置式三層導軌對準方式，使導軌自重（chóng）和受力方向（xiàng）保（bǎo）持一致，自動消（xiāo）除間隙；承片（piàn）台（tái）升降采用無間隙滾珠直進導軌（guǐ）、氣動式

4.可靠性高
采用PLC控製、進（jìn）口（日本產）電磁（cí）閥和按鈕、獨特的氣動係統、真（zhēn）空（kōng）管路係統和經過精密機械製造工藝加工的零件，使本機運行具（jù）有非（fēi）常（cháng）高的可靠性且操作、維護（hù）、維修（xiū）簡便。

5. 特設功能
 除標準承片台外，我公司（sī）還可以為用戶定製專用承片台，來解（jiě）決非圓形基（jī）片、碎片（piàn）和底麵不平的基片造成的版（bǎn）片分離不開所引起的版片無法對準的（de）問題。

（1）高均勻蠅眼曝（pù）光頭。

a.高壓球形汞燈；

b.曝光麵積：150mm×150mm；

c.曝（pù）光強（qiáng）度：≤20mW/cm²汞燈（進口（kǒu））；

d.光源平（píng）行性：≤3.5°；

e.照明不均勻性： ±3%（ Φ100mm範圍）；±4%（Φ150mm範圍）；

g.套刻精度：1μm

(2)觀察係統為上下各兩（liǎng）個無級變倍、高分辨率單筒顯微鏡上裝四個CCD攝像頭通過視屏線連接（jiē）計算機到19″高清液晶顯視屏上。

a. 單筒顯微鏡為1.6X～10X連續變倍（bèi）顯微鏡；

b. CCD攝像機靶麵對角（jiǎo）線尺寸為：1/3″；

c. 采用19″液（yè）晶監視器，其數字放大倍率（lǜ）為19÷1/3=57倍；

d. 觀察係（xì）統放大倍數為：1.6×57=91倍（bèi）（放小倍數）

 10×57=570倍（放大倍數）；