設備概述:

 本設（shè）備是我公司根據（jù）市場需求研發的產（chǎn）品，其突出的特點是曝光麵積大，通常情況下為（wéi）Φ4"，對被光刻基片的外形、厚度要求較低，可對多種材料的（de）基片進行光（guāng）刻，它特別適用一次光刻的（de）產品（pǐn），可製作聲表麵器件、可控矽、小液晶顯示器、傳感器、二極管、園光柵、編碼盤等，按用戶（hù）要求可提供圓形承片台或方形承片台,承片台都能實現“真空密著”曝光（guāng），加（jiā）之光均勻性好（Φ100mm範圍內≤±3%），所以大大（dà）提高光刻質量。

主要（yào）構成
主要由防震工作台（tái）、高（gāo）均勻性（xìng）4"蠅眼曝光頭、氣動係統、電氣控製係統、真空管路係統、直聯式真空（kōng）泵及附件箱等組成。

主要（yào）功能特點

1.適用（yòng）於5mm以下的各種基（jī）片)的一次曝光（guāng）。

2.本設備配（pèi）置有可實（shí）現真空硬接觸、軟接觸（chù）、微力接觸的真空密（mì）著機構；具

3. 操（cāo）作簡便

4. 設備運行穩定、可（kě）靠（kào）

5. 特設功能

主要技術參數：

1、曝光麵積：Φ4"，配置4"蠅眼專（zhuān）用曝光頭

2、實現“真空密（mì）著”曝光，（通過調整真空度能實現硬接（jiē）觸、軟接觸或微力接觸曝光）。但基片厚度≤2mm。

3、曝光*小（xiǎo）分辨率（lǜ）為2μm。

4、可以為用（yòng）戶製作具有預定位機構的專（zhuān）用承片台，片對版的預定位精度≤±0.1mm。

5、曝光頭用燈為<span style="font-size:16px;line-height:150%;font-family:;" "="">GCQ350Z型高（gāo）壓水銀直流汞，光強≤10mw/cm²，光的（de）不均勻性在Φ100mm範圍內≤±3%，可以通過調節曝光頭光柵來改變光強。