G-43Y6型（xíng）高精密單麵光（guāng）刻機

產品介紹（shào）：

設備（bèi）概述（shù）:

本設備是我公司根據（jù）市場（chǎng）需求研發的產品，通常（cháng）情況下基片尺寸為：Φ6"，對（duì）被光刻基片的外形、厚度要求較低，可（kě）對多種材料的基片進行光刻。它特別適用進行一次光刻的產品,可製作聲表麵器件、可控矽、小液晶顯示器、傳感（gǎn）器、二極管、園光柵、編碼盤等。按用戶要求可提供圓形承片台或方形承片台,不管哪一種承片台，都能實現“真空密著（zhe）”曝光,加之光均勻性好，所以大大提（tí）高光刻質量。 <span style="font-family:;" "="">
主要（yào）由防震工作台、高均（jun1）勻性6"蠅眼曝光頭、氣動（dòng）係統、電氣控製係統、真空管路係統（tǒng）、直聯式真空泵及附件箱等組成（chéng）。

  適用於<span style="font-size:16px;font-family:;" "="">Φ6"以下，厚度（dù）(包括非圓形基片
  2. 結構穩（wěn）定

有真空掩膜版架、真空片吸盤。

本設備操作簡單，調試、維護、修理等（děng）都非常簡（jiǎn）便

采用進口電磁閥（fá）、按（àn）鈕、定時器；采用獨特的氣動係統、真空管路係統和精密（mì）的機械零件，使本機具有非常高的可靠性。

除標準承片台外，還可（kě）以為用戶定製專用承（chéng）片台，來解決非圓形基片、碎片和底麵不平的基片（piàn）造成的版片分離不開（kāi）所引起的版片無法對準的問題<span style="font-size:12.0pt;font-family:;" "="">

主要技術（shù）參數：

1、操作方式：手動。

2、曝光模（mó）式：接（jiē）觸式曝光。

3、曝光麵（miàn）積曝光麵積：150mm×150mm。

4、紫外光源：g線（436nm）和i線（365nm）

5、實現“真（zhēn）空密著”曝光，但基片厚度≤2mm。

6、分辨率：Φ100mm範（fàn）圍內≤2um

7、照明不均勻性： ±3%（ Φ100mm範圍）；±5%（ Φ150mm範圍）；

8、曝光光源：350W汞燈（進口）；

9、曝光強（qiáng）度：≤20mW/ cm²

10、光源平行性：≤3.5°；

11、樣品尺寸：Φ150mm。