G-31D4型高精密光刻機  

產品（pǐn）介紹：

設備概述

本設備廣（guǎng）泛用於各大、中、小型企（qǐ）業、大專院校（xiào）、科（kē）研單位，它（tā）主要用於中小規（guī）模集成電路、半導體元（yuán）器件、光電（diàn）子器件（jiàn）、聲表麵（miàn）波器件、薄膜電路、電力電子器件的研製（zhì）和（hé）生產（chǎn）。主要構成 本（běn）設備（bèi）為板板對準雙（shuāng）麵曝光<span style="font-family:;" "="">

主要由雙（shuāng）目（mù）視場CCD顯微顯示係（xì）統、二台4"LED專用曝光頭、PLC電控係統、高精度對準工作台、Z軸升降（jiàng）機構、真空管路係統、氣路係統、直（zhí）聯式真空泵、二級防震工作台等（děng）組成。

主要功能特點

1.適用範圍廣

適用於φ100mm以下、厚度5mm以下的各種基片(包括非圓（yuán）形基片)的對準曝光，雙麵可同時曝光，亦可用（yòng）於單麵曝光。

2.結構

Z軸采用滾珠（zhū）直進式導軌和可實現硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機構，真空吸版，防粘片機構。

3.操作簡便

X\Y移動、Q轉、Z軸升降采用手（shǒu）動方式；吸版、反吹采用按鈕方式，操作、調試、維（wéi）護、修理都非常簡便。

4. 可（kě）靠性高（gāo）

采用進口（日本產）電（diàn）磁閥、按鈕、定時器；采用獨特的氣動（dòng）係（xì）統、真空管路係統和精密的機械零件，使本機運行具有非常高的可靠（kào）性。采用進口（日本產）電磁閥、按鈕、定（dìng）時器；采用獨特的氣（qì）動係統、真空管路係統和

5. 特設功能

不平的基片造成的（de）版片（piàn）分離（lí）不開所引起的版（bǎn）片無法對準的問題  

主（zhǔ）要技術指（zhǐ）標

2、曝光麵積：102×102mm；

3、曝光照度不均勻性：≤±3%；

4、曝光強度（dù）：0～30mw/cm²可調；

5、紫外（wài）光（guāng）束角：≤3°；

6、紫外光中（zhōng）心波長（zhǎng）：365nm；

7、紫外光（guāng）源壽命：≥2萬小時；

8、工（gōng）作麵溫度：≤30℃

9、采用電子快門；

10、曝光分辨率：1μm(曝光深度為線寬的10倍左右)

11、曝光模式：雙麵同（tóng）時曝（pù）光

12、對準範圍：X:±5mm Y:±5mm

13、套刻精度：1μm

14、旋轉範圍：Q向旋轉調節≤±5°

15、顯微（wēi）係統：雙視（shì）場CCD係統（tǒng），物（wù）鏡1.6X～10X，計算機圖像處理係統（tǒng），19″液晶監視器（qì）；

16、掩模版尺寸：能真（zhēn）空吸附5"方形掩板，對版的厚度無特殊（shū）要求（1～3mm皆可）。

17、基片尺寸：適用於4"基片，基（jī）片厚度0.1－2mm。