G-43B9型高精密光刻機

產品介紹：

設備概述:

本設備是我公司根據市場需求研發的產品，其*大特（tè）點是曝光麵積極大，通常情況下為：Φ9"，對被光刻基片（piàn）的外形、厚度（dù）要求較低，可對多種材料的基片進行（háng）光刻，它特（tè）別適用一次光刻的產品，可製作聲表麵器（qì）件（jiàn）、可控矽、小液晶顯示器（qì）、傳感器、二極管、園光柵、編碼盤（pán）等，按用戶要求可提（tí）供圓形承（chéng）片台或方形承片台，不管哪一種承片台都能實（shí）現“真空密著”曝光（guāng），加之光均勻（yún）性（xìng）好（Φ200mm範圍內≤±6%），所以大大提高光刻質量，我公司還可根據用戶要求，在G-43B9型光刻機外加裝對準設置，以進行版對片的精密對準曝光。

主要構成（chéng）

1.適用範圍廣
適用於Φ200mm以下、厚度：5mm以下的各種基片(包括非圓形基（jī）片)的一次光刻。
2.結（jié）構穩定
本設備配置有（yǒu）可實現真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機構；配置有真空掩膜版架、真（zhēn）空片吸盤。
3.操（cāo）作簡便（biàn）
本設備操作簡單，調試、維護、修理等都非常簡便。
4.設備（bèi）運行穩（wěn）定、可靠
采用進口電磁閥、按鈕、定時器；采（cǎi）用獨（dú）特的氣動係統（tǒng）、真空管路係（xì）統和精密的機械零件，使本機具有非常高（gāo）的可靠性。
5.特設功能
除標準承片台外，還（hái）可以（yǐ）為用戶定製專用承片台，來解決（jué）非圓形基片（piàn）、碎片（piàn）和底麵不平的基片造成的版片（piàn）分離不開所引起的版片（piàn）無法對準的（de）問題（tí）

主要技（jì）術參數：

1、曝（pù）光麵積Φ9"。

2、曝光*小分辨（biàn）率為3μm。

3、可以為用戶製作（zuò）具有預定位（wèi）機構的專用承（chéng）片台（tái），片對版的預定位精度≤±0.1mm。

4、曝光頭用燈為GCQ350W型**壓直流球形汞燈，光強（qiáng）≤3.5mw/cm²，光的不均勻性在：Φ200mm範圍內≤±6%。

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