G-43D4型高精密單麵光刻機

產品介紹：

設備概述:

本設備是我公司根（gēn）據市場需求研發的（de）產品，可以光刻Φ4"以下基片，對被光刻基片的（de）外形、厚度要求（qiú）較（jiào）低，可對多種（zhǒng）材料的基片進行光刻。它特別適用進行一（yī）次光刻的產品,可製作聲表麵器件、可（kě）控矽、小液晶顯示器、傳感器（qì）、二極管、園（yuán）光柵、編碼盤等。按用戶要（yào）求可提供圓形承片台或方形承片台,不管哪一種承片台，都能實現“真空密著（zhe）”曝光,加（jiā）之光均勻性好，所以大大提高光刻質量。

曝光頭及部件圖

-主要構成
主（zhǔ）要由防震工作台、高均勻性<span style="font-family:" font-size:16px;"="">LED4"專用曝光頭、氣（qì）動係統、電氣控製係統、真空管路係統、直聯式真空泵及附（fù）件箱等組成。

主要功能特點

Φ100mm以下（xià），厚（hòu）度(包括（kuò）非（fēi）圓形基片

 

有真空掩膜版（bǎn）架、真空片（piàn）吸盤。    3. 操（cāo）作簡便  本設備操作簡單，調試、維護、修理等都非常簡便。    4. 設備運行穩定、可靠  采用進口電磁閥（fá）、按鈕（niǔ）、定時器；采（cǎi）用獨特的氣動係統、真空管路係統和精密的機械（xiè）

  的基片造（zào）成的版片分離不開所引起的版（bǎn）片無法（fǎ）對準的問題<span style="font-family:;" "="">

主要技術參數：

1、操作方式：手動。

2、曝光模式：接觸式曝光。

3、曝光麵積（jī）：Φ4"，配置4"LED專用曝光頭，紫外光源（yuán）壽命≥2萬小（xiǎo）時

4、紫外光（guāng）源：365nm。

5、實現“真空密著”曝光，但基（jī）片（piàn）厚度≤2mm。

6、分辨率：2um

7、 光的不均勻性：≤±3%；

8、樣品尺寸：Φ100mm。

9、曝光強度：0～30mw/ cm²可調（此指標用（yòng）紫外光源I線365nm測量）。