G-43D6型高精密單麵光刻機

設備概述:

本設備是我公司（sī）根據市場需求研發的產品（pǐn），可以光刻Φ6"以（yǐ）下基片，對被（bèi）光刻基片的外形、厚度要求較低，可對多種材料的基片進行光刻。它特別適用進行一次光（guāng）刻的產品,可製作聲表（biǎo）麵器件、可控矽（guī）、小液晶顯示器、傳感器、二極管、園光柵、編碼盤等。按（àn）用戶要求可提供圓形承片台或方形承片台（tái）,不管哪一種承（chéng）片台，都能實（shí）現“真空密著”曝光,加之光均勻性好，所以大大提高光刻質量。

曝光頭及部件圖

主要構成<span style="font-family:" font-size:16px;"="">主要由防震工作台、高均勻性6"

1.適用範圍廣
      適用於Φ6"以下，厚度5mm以下的各種基片(包括（kuò）非圓形基片（piàn）)的一次曝（pù）光。
      2.結構**
     本設備配置有可實現真空（kōng）硬接觸、軟接觸（chù）、微（wēi）力接（jiē）觸的真空密著（zhe）機（jī）構；具有真空掩膜（mó）版架、真空片吸盤。
      3.操（cāo）作簡便
     本（běn）設備操作簡單，調試、維護、修理等都非常簡便。
     4.設備運（yùn）行穩定、可靠
     采用進口電磁閥、按鈕、定時器；采用獨特的氣（qì）動係統、真空（kōng）管路係統（tǒng）和（hé）精密的機械零件（jiàn），使（shǐ）本（běn）機具有（yǒu）非常高（gāo）的可靠性。
     5.特設（shè）功能
     除標準承（chéng）片台外，還可以為用（yòng）戶定製專用承片台，來解決非圓形基片、碎片（piàn）和底麵不平（píng）的基片造成的版片分離不（bú）開所（suǒ）引起的版片無法對準的問題

主要技術參數：

1、操作方式：手動。

2、曝光模（mó）式：接觸式曝光。

3、曝光麵積：Φ6"，配置6"LED專用曝光頭，紫外光源壽命≥2萬小時（shí）

4、紫外光源（yuán）：365nm。

5、實現（xiàn）“真空密著”曝（pù）光，但基片厚度≤2mm。

6、分辨率：2um

7、光的不均（jun1）勻性：≤±3.5%；

8.樣品尺寸：Φ150mm。

9、曝光強度：0～30mw/cm²可調（此指（zhǐ）標用紫外光源I線365nm測量）