G-31D6型高（gāo）精密光刻機

產品介紹：

設備概（gài）述

本設備廣泛用於各大、中、小型企業、大專院校、科研單位，它主（zhǔ）要用於中小規模集成電路、半（bàn）導體元器件、光電子器件、聲表麵波器件、薄膜電路、電力電（diàn）子器件的研製和生產。

主要構成 本設備為板板對準雙麵曝光<span style="font-family:;" "="">

主要由雙（shuāng）目視場（chǎng）CCD顯微（wēi）顯示係統、二台6"LED專（zhuān）用曝光頭（tóu）、PLC電控（kòng）係統、高精（jīng）度對準工作（zuò）台、Z軸升降機構、真空（kōng）管（guǎn）路係統、氣路係統、直聯式真空泵（bèng）、二級（jí）防震（zhèn）工作台等組成。

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曝光頭部件（jiàn）圖

CCD顯微係統|X、Y、Q對準工作台

主要（yào）功能特點

1.適（shì）用範圍（wéi）廣

適用（yòng）於150×150mm以下、厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的對準曝光，雙麵可同（tóng）時曝光（guāng），亦可用於單麵曝光。

2.結構穩定（dìng）

Z軸采（cǎi）用滾（gǔn）珠直進式導（dǎo）軌（guǐ）和可（kě）實（shí）現硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機構，真空吸版，防粘片機構。

3.操（cāo）作（zuò）簡（jiǎn）便

X\Y移動、Q轉、Z軸升降采用手動方式；吸版（bǎn）、反（fǎn）吹采用按鈕方式，操（cāo）作、調試、維護、修理（lǐ）都非常簡（jiǎn）便。

4. 可靠性高

采用進口（kǒu）（日（rì）本（běn）產）電磁閥、按鈕、定時器；采用獨特的氣動係統、真空管路係統和精（jīng）密的機械（xiè）零件，使本機運行具有非常高的可靠性。

5. 特設功（gōng）能

除標準承片台外，還可以為用戶定（dìng）製專用承片台，來（lái）解決非圓（yuán）形基片（piàn）、碎片和底麵不平的基片造成的版片分離不開所引起的版片無法（fǎ）對準（zhǔn）的問題

主要技術指標

1、曝光（guāng）類型：版版對準雙麵曝光

2、曝光麵積：150×150mm；

3、曝光照度不均勻（yún）性：≤±3.5%；

4、曝光強（qiáng）度：0～30mw/cm²可調；

5、照明不均勻性改為≤3%；

6、紫外光中心波長：365nm；

7、紫外光源壽命：≥2萬小時；

8、工作麵溫度（dù）：≤30℃

9、采用電子快門；

10、曝光分（fèn）辨率：1μm(曝光深度為線寬（kuān）的10倍左右)

11、曝（pù）光（guāng）模式：雙麵同時曝光

12、對準範圍：X:±5mm Y:±5mm

13、套刻精度：1μm

14、旋轉範圍：Q向旋轉調（diào）節≤±5°

15、顯微係統：雙視場CCD係（xì）統，物鏡1.6X～10X，計算機圖像處理係統，19″液晶監視器；

16、掩模版尺寸：能真空（kōng）吸附6"方（fāng）形掩板，對（duì）版的厚度（dù）無特殊要求（1～3mm皆可）。

17、基片尺（chǐ）寸：適用於Φ5"mm圓形（xíng）基片（或3"×3"mm方形基片），基片厚度≤5mm。