G-43B4型高精密單麵光刻機產品（pǐn）介紹：

設備概述:

本設備是我公司根據市場（chǎng）需求研發的產品，通常情（qíng）況下可（kě）曝光基片尺寸為：Φ4"，對被光刻基片的（de）外形、厚度要求較低（dī），可對多種材料的基片進（jìn）行光刻，它（tā）特別適用做一次光刻（kè）的產品，可製作聲表麵器件（jiàn）、可（kě）控矽、小液晶顯示器、傳感器、二極管、園光柵、編碼盤等，此設備光的均勻性非常好（在Φ100範圍內≤±4%），所以大（dà）大提高了設備的光刻質量。

主要（yào）構成（chéng）
主要由防震工作台、高均勻性曝光頭、氣動係統、電（diàn）氣控製係統、真空管路係統（tǒng）、直聯（lián）式真空泵及附（fù）件箱等組成。

曝光頭（tóu）及部件圖

主要功能特點

1.適用（yòng）範圍廣
適用於Φ100mm以下，厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的一次曝光。
2.結構穩定
本設備配置有可實（shí）現真空硬接觸（chù）、軟接觸、微力接觸（chù）的真空（kōng）密著機構；具有真空掩膜版架、真空片（piàn）吸盤。
3.操作簡便
本設（shè）備操作簡單，調試、維護、修理等都非常（cháng）簡（jiǎn）便。
4.設備運行穩定、可靠
采用（yòng）進口電磁閥、按鈕、定時器；采用獨（dú）特的氣動係統、真空管路係統和精密的機械（xiè）零件，使本機（jī）具有非常高的可靠性。
5.特設功能
除標準承片台外（wài），還可以為用戶定製專用承片台，來（lái）解（jiě）決非圓形（xíng）基（jī）片、碎片和底麵不平的基片造成的版片分離不開所引起的版片（piàn）無法對準（zhǔn）的問題

主要技術指（zhǐ）標

1．操作方式：手動；

2．曝光模式：接觸式曝光；

3．曝光麵積：Φ4"；

4．紫外（wài）光源：g線（436nm）或i線（365nm）；

5.曝光分辨率（lǜ）：3um；

6．曝光頭汞燈為GCQ350W型**壓（yā）直（zhí）流球形汞燈。