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简述(shù)光刻机的演变和所面临的挑战

发布时(shí)间: 2020-06-20 来源:

四川光(guāng)刻机是诸多当(dāng)代技能高度(dù)集成的产物, 这些技能是:物理(lǐ)学,光学,化学,质料科学,精密呆板,精密控制,工程学等等。

四川光刻机

在过往的20几年中,光刻机作为半导体(tǐ)制造业的紧张配置(zhì),经(jīng)历了(le)许多次革(gé)命。这些变革是陪伴着微处理惩罚器和DRAM特(tè)征尺寸的不停缩减(jiǎn)产生的演变。 由于光刻的辨别率与曝光波长、物(wù)镜光阑孔径的干系为:辨别率=K1λ/NA以是光(guāng)刻(kè)机的革命紧(jǐn)张产生在这样几个方(fāng)面[2-8]:大(dà)NA非球面镜光学体系,短波长光源,辨别率(lǜ)增强技能(低沉K1因子),同步扫(sǎo)描工件台等。

在过往的20几年中(zhōng),光(guāng)刻机作为半导体制造业的紧张配置,经历了许多次革命(mìng)。这些(xiē)变革是陪伴着微处理惩罚器(qì)和DRAM特征尺寸的不停缩减产生的演变。 由于光刻(kè)的(de)辨(biàn)别率(lǜ)与曝光波(bō)长、物镜光阑孔径的干系为:辨别率=K1λ/NA以是光刻机的革命紧张产生在这样几个方面[2-8]:大(dà)NA非(fēi)球面镜光学体系,短波长(zhǎng)光(guāng)源,辨别率增强技能(低沉K1因子),同步扫描工件台等。

光刻机螺纹隔爆结构有何规(guī)定

在环境实验箱维修中不经(jīng)常拆卸(xiè)的部分可以使用螺纹隔爆结构. 从氢气(qì)、乙炔一空气混合物的爆(bào)炸试验结果看,螺纹隔爆结构是*好的静止隔(gé)爆结构。例如:在矿用隔爆型移动变电站的高、低压接线盒中,套管(guǎn)与接线座、接线座与出线盒法兰之间均为螺纹(wén)隔爆结构.

采用(yòng)螺纹(wén)隔爆(bào)结构时,必须**同种零件间的(de)互换性,还必须符合(hé)下列规定:

1.螺(luó)纹精度须不(bú)低于3级,螺(luó)距须不小于0.7mm;

2.螺纹的*少啮合扣数、*小拧入深(shēn)度,须符(fú)合规定;

3.螺纹结构须有防止自行(háng)松(sōng)脱的措施.

成都光刻(kè)机

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