近日（rì）疫情在國外一些**爆發，荷蘭這一**的防護（hù）物（wù）質不夠想向中國訂購，網絡上就出現（xiàn）了一（yī）片呼聲建議荷蘭用光刻機來換。這是為什麽呢？光刻機到底有什麽魔力是用來幹什麽（me）的呢？和成（chéng）都光（guāng）刻機（jī）廠家一起往下了解一下吧（ba）。

一、光刻機是幹嘛（ma）的？

光（guāng）刻機（jī）就是個（gè）“投影儀”，把91视频网站想要的（de）影子投影（yǐng）到幕布（bù）上。芯片那麽精細，是怎（zěn）麽生產出來的呢（ne）？用刀刻？用水衝？都不行，因（yīn）為芯片太精細了（le），動輒幾十nm的線條，日常沒有（yǒu）什麽材料能做成這麽精細的刻刀。所（suǒ）以91视频网站（men）就想了一個辦法，用光線來刻，這也就是（shì）光刻機。怎麽個用光刻法（fǎ）呢？91视频网站都用過膠卷相機吧，膠片平日裏是黑色的，不能見光的，一旦見光（guāng）就會變白，91视频网站也找了一種一見光（guāng）就“易溶解”的特殊膠（jiāo）片。當91视频网站想要在芯片上刻一個圓圈的（de）時候（hòu），91视频网站（men）就在（zài）芯片上塗上這種特殊膠片，拿一個圓圈（quān）光照上去（qù），再經過（guò）一些列後續處理，91视频网站在這個芯片（piàn）上就做出（chū）了一個（gè）圓圈圖形了對吧。光刻機（jī）就是用這種膠片來刻出圖形的。剩下的問題是，91视频网站怎（zěn）麽把一（yī）種91视频网站想要的特定圖形打到膠片上呢？91视频网站見（jiàn）過（guò）老式投影儀吧，原理跟皮（pí）影戲（xì）是一樣的，做（zuò）一個“剪紙”，拿燈（dēng）光一照（zhào），這個剪紙就映在幕布上了。91视频网站也想辦法在光刻機裏做了這樣的“剪紙”，拿光源一照，這個剪紙就映在膠片上了。以上（shàng）就是光（guāng）刻機的通俗理解。

二、光刻機原理 光（guāng）刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對準（zhǔn）曝光（guāng）機，曝光係統，光刻係統等。

常用的光刻機是掩膜對準光刻，所以叫 Mask Alignment System. 一般的光刻工藝要經曆矽片（piàn）表麵清洗烘（hōng）幹、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對準（zhǔn）曝光、後烘、顯影、硬烘（hōng）、刻蝕等工序。 Photolithography（光刻） 意（yì）思是用光來製作一個圖形。 在矽片（piàn）表麵勻膠，然後將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程將器件或電路結構臨時“複製”到（dào）矽片上（shàng）的過程。 下麵，簡單介紹一下圖中各設備的作用。 1、測量台、曝光台：承載矽片的（de）工作台，也就是本次（cì）所說的雙（shuāng）工作台。 2、光束矯正器：矯正光束入射方向，讓激光束盡量平行。 3、能量控製器：控製*終照射到矽片上的能量，曝光不（bú）足或過足都會嚴重（chóng）影（yǐng）響成像質量。 4、光束形狀設置：設置光（guāng）束為圓型、環型等不同形狀，不同的（de）光束狀（zhuàng）態（tài）有不同的光學特性。 5、遮光器：在不需要曝光的時候，阻止光束照射到矽片。

6、能量探測器：檢（jiǎn）測光（guāng）束*終入射能量是否符合（hé）曝光要求，並反（fǎn）饋給能量控製器進行調（diào）整。 7、掩模版：一塊在（zài）內部刻著線路設計圖的玻璃板，貴的要（yào）數十萬美元。 8、掩膜台：承（chéng）載掩（yǎn）模版運動的設備，運動控製精度是nm級的。 9、物鏡：物鏡由20多塊鏡片（piàn）組成（chéng），主（zhǔ）要作用是把掩（yǎn）膜（mó）版上（shàng）的電路圖按比例縮（suō）小，再被（bèi）激（jī）光映射的矽片上，並且物鏡還要補（bǔ）償各種光學誤差。技（jì）術難度就在於物鏡的設計難度大，精度的要求高（gāo）。 10、矽片：用矽晶製（zhì）成的圓片。矽片有多種尺寸，尺寸越大，產率越高。題外話（huà），由於矽片是圓的，所以需要在矽片上（shàng）剪一個缺口來確認矽片（piàn）的坐標係，根據缺口的形狀不同分為兩種，分別叫flat、notch。 11、內部封閉框（kuàng）架、減振器：將工作台與外（wài）部環境隔離，保持水平，減少外界振動幹擾，並維持穩定的溫度、壓力。

三、認清光刻機性能指標

1、光刻機的主要性能指標有：支持基片的尺寸範圍，分辨率、對準精度、曝光方式、光源波長、光（guāng）強均勻（yún）性、生產效率等。 2、分辨率是對光刻工藝加工可以達到的*細線條精度的一（yī）種描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限製，所以（yǐ）與光源（yuán）、光刻係統、光刻膠和工藝等各方麵的限（xiàn）製。 3、對準精度（dù）是在多層曝光時層間圖案（àn）的定位精度。 4、曝光方式分為接觸接近式、投影式和直寫式。 5、曝光（guāng）光源波長分為紫外、深紫外和極紫外區域，光源有汞燈，準分子（zǐ）激光器等。

四、光刻機（jī）作用

光刻機是（shì）微電（diàn）子整備的空頭，其具有技術難度*高、單台成本（běn）*大、決定集（jí）成密度等特點。

**的內容就到這裏啦。希（xī）望讓（ràng）您對光刻機有一定的了解。成都（dōu）鑫（xīn）南光（guāng）機（jī）械設備有限公司專業提供在微電子工藝生產方麵（miàn）使用的多種型號光（guāng）刻機；在真空釺焊（hàn）、陶瓷金屬化、燒氫退火工藝等方麵使用的各型真空爐（lú）、氫（qīng）氣爐；在零件真空幹燥（儲存）櫃、真空鍍膜機等設備的設計和製造方麵，公司均（jun1）有自己獨特的專長。 歡迎大（dà）家致電我司了解詳情!