鑫南光小編（biān）為（wéi）大家介紹四川精密光刻機產品（pǐn）介紹：

一、主要（yào）用途（tú）：

本設備用於中小規模（mó）集成電路、半導體元器件、聲表麵波器件研（yán）製和生（shēng）產。找平機構穩定性（xìng）高，找平力小。且應對特殊基片表現卓越，如易碎的砷化鉀（jiǎ）、磷化（huà）銦等基片，以及非圓形、小型基片時，可憑借找平力小的優勢，能（néng）不損壞基片順利曝光（guāng）且滿足曝光需求。

二、主要技術參數 ：

1.適用於對Φ4″以下隻需一次曝光的各（gè）種基片進（jìn）行曝（pù）光，基片厚度要求0～5mm。

2.光源采用200W直流汞燈（dēng），曝光頭光束不均勻性≤±6%（Φ100mm範（fàn）圍以內）。

3.采用時間繼電器（可調節）控製曝光頭的快門。

4.具有兩個（gè）真空密著（zhe）承片（piàn）台（一個在曝光時，另（lìng）一個可進行上下片的操作），根（gēn）據用（yòng）戶需求，我公司可製作圓形（xíng）或方形真空密著承片台。

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