鑫南（nán）光公司小編為大家介紹關於成（chéng）都光刻機的產（chǎn）品特點：

一、主要（yào）用途

本設備是我公司（sī）針對各大專院校及科研單位對光刻機的使用特性專門研發的一種精密光刻（kè）機，它（tā） 主要用於（yú）中小規模集成電路、半導體元器件、光（guāng）電子（zǐ）器件、聲表麵波器件的研製和生產。

二、主要構成

主要由高精度對準工作台、雙目分離視場（chǎng）CCD顯微顯示係統、曝（pù）光頭、氣動係統、真空管路係統、直聯（lián）式真空泵、防震工作台和（hé）附件箱等組成。

三、主要功能（néng）特點（diǎn） :

1.適用範圍廣:

適（shì）用於Φ100mm以下，厚度（dù）5mm以下的各種基片(包（bāo）括非圓形基片)的（de）對準曝光。

2.結構穩（wěn）定

具有半球式找平機（jī）構和可實現真空（kōng）硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機構；具  有（yǒu）真空掩膜（mó）版架（jià）、真空片吸盤。

3.操作簡（jiǎn）便

采用翻板方式取片、放片；按鈕、按鍵方式操作，可實現真空 吸版、吸片、吸浮球、吸掃描鎖等功能，操作、調（diào）試、維護、修理 都非常簡便。

4.可（kě）靠性（xìng）高

采用進口電磁閥、按鈕、定時器（qì）；采用獨特的氣動係統、真空管路係統和精密的（de）機械零件，使本機具有非常高的可靠性。

5.特設“碎片”處理功能

解決非圓形（xíng）基片、碎片和底麵不平的基片造成（chéng）的版（bǎn）片分離不開所引起的版（bǎn）片無法對準（zhǔn）的問題（tí）。

四、主要（yào）技術指標（biāo）:

1、曝光（guāng）頭:采用（yòng）蠅眼曝光頭

2、曝光（guāng）類型：單麵（miàn）

3、曝光麵積（jī）：φ100mm

4、光束不（bú）平行度：≤6°

5、曝光不均勻性：≤±3%

6、掩模版（bǎn）尺寸：2.5″×2.5″、4″×4″、 5″×5″

7、基片尺寸：φ2″、φ3″、φ4″

8、基片厚度：≤5 mm

9、曝光強度：≥5mw/cm²

10、曝光分（fèn）辨率：≤1.0μm

11、曝光模式：套（tào）刻曝光

12、對準精度：1μm

13、掃描範圍：X：±40mm   Y：±35mm

14、對準範圍：承片台相對於（yú）版運動（dòng）為：

①x、y±5mm運動，放大比為（wéi）400:1；

②Q轉動為±5°；③Z軸運動≤4mm；

15、密著曝光方式：密著曝光可實（shí）現硬接觸、軟接觸和（hé）微力接觸曝光；

16、顯微係統：雙視場CCD係統；連（lián）續可調（物鏡0.7～4.5倍連續可調）；

計算（suàn）機圖像處理係統；

17、曝光燈功率：直流350W

18、曝光定時：0～999.9秒可調

19、電（diàn）源（yuán）：AC220V 50Hz 1kW

20、空氣：P≥0.1MPa，耗氣量0.2m³小時；

21、真空度：-0.07MPa～-0.09MPa

22、外形（xíng）尺寸：918×680×1450(L×W×H)mm

23、重量：～160kg

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