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四川G-25XA型高精密(mì)單(dān)麵(miàn)光刻機

關於G-25XA型精密光刻機產品介紹:一、主要用途: 本設備是我公司專門針對各大專(zhuān)院校及科研單位對光刻機的使用特性研發的一種精密…

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G-25XA型(xíng)高精密光刻機

設備概述:

本設備是我公司(sī)專(zhuān)門針對各大專院校及科研單位(wèi)對光刻機(jī)的使用特性研(yán)發的一種精密光(guāng)刻機,它主要用(yòng)於中小規模集成電路、半導體元器(qì)件(jiàn)、光電子器(qì)件、聲表麵波(bō)器件的研製和(hé)生產(chǎn)。

主要構成
主要由高精度對(duì)準工作台、雙目(mù)分離視場CCD顯微顯示(shì)係統、GCQ350Z型高壓水銀直流汞、氣動係統、真空管路係統、直聯式(shì)真空泵、防震工作台和附件箱等(děng)組成。<span style="font-family:" font-weight:normal;"="">

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多點光(guāng)源(蠅眼)
可調(diào)光強的光欄(lán)

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三點找平機構
高(gāo)精度X、Y、Z、Q調節機構

主要功能特點

1.適用範圍(wéi)廣
  適用於Φ100mm以下,厚度5mm以下的各種基片(包括(kuò)非圓形基片)的對準曝光(guāng)。
  2.結構(gòu)穩定
  具有氣浮式找(zhǎo)平機構和可實現真空硬接觸、軟接觸(chù)、微力接觸的真空密著(zhe)機構;具有真空掩膜版架、真空片吸盤。
  3.操作簡(jiǎn)便
  采用翻板方式取片、放片;按鈕、按鍵方式操作,可(kě)實現真空吸版、吸片、吸浮球、吸掃描鎖等功能,操作、調試、維護、修理都非常簡便。
  4.可靠性高
  采用進(jìn)口(日本產)電磁閥、按鈕、定時器;采用獨特的氣動係(xì)統、真空管路係(xì)統和精密的機械零件,使本(běn)機運行具有非常高的可靠性。
  5.特設功能
  除標準承片台(tái)外,還(hái)可以(yǐ)為用戶定製專用承片台,來解決非圓(yuán)形基片、碎片和底麵不平的基片造成的版片分離不開所引(yǐn)起的(de)版片無法對準的問題

主要技術(shù)指標(biāo)

1、設備能真空吸附5"×5"方形掩板,對版的(de)厚度無特(tè)殊要求。

2、設備能適用於Φ100mm圓形基片(或100×100mm方形基(jī)片),基片厚度≤5mm,當您的基片厚度≤1mm時,我公司為本機配置標準(zhǔn)承片台(不另計(jì)費(fèi)),當基片厚度>1mm時,設備(bèi)需配置專用承片台(訂(dìng)貨時用戶須說明,費用(yòng)另議)。

3、照明:

光(guāng)源:GCQ350Z型高壓水銀直流汞。

照明範圍:≤ф117mm曝光麵積:Φ100mm

在Φ100mm範圍內,曝光不均勻性≤±4%,曝光強度:≥5mw/cm²(此指標用紫外光源I線365nm測量)。

4、本(běn)設備采用進口(kǒu)時間繼(jì)電器控製氣動快門(mén),動作準確、可靠。

5、本機為接觸式曝光機,可實現:

(1)硬接觸曝光:用管道真空來獲得高真空接觸,真空≤-0.05MPa。

(2)軟接觸曝光:接觸壓力可將真空降到-0.02MPa~-0.05MPa之(zhī)間。

(3)微(wēi)力接觸(chù)曝光:小於軟接(jiē)觸,真空≥-0.02MPa。

6.曝光分辯率:本(běn)設備硬接(jiē)觸曝(pù)光的分辨度可達2μm以上。

7.對準:觀察係統為兩個單筒顯微鏡上裝二個CCD攝像頭(tóu),通過視屏線連(lián)接到(dào)顯視屏上。



四川光刻機

成都(dōu)鑫南光(guāng)機械設(shè)備有限公司是一(yī)家專業從(cóng)事四川真空泵,四川光刻機,四川氫氣爐生產及銷(xiāo)售批發工作的企業,谘詢電話:13908187709,028-85730519,擁有技術裝備和獨特的設(shè)計,具有豐富的專用設備裝配調試技術和經驗。


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