G-30D4型高精密單麵光刻機

設備概述:

本設備為我公（gōng）司專（zhuān）門針對各大（dà）、中、小型企業的使用特性而研發的一種高精密雙麵（miàn）光刻機，它主要（yào）用於中小規模集成電路、半（bàn）導體元（yuán）器件、聲表（biǎo）麵波器件的研製和生產,它具有（yǒu）生產效率（lǜ）高、結構簡單、操（cāo）作維護方（fāng）便等優勢，本機不僅適合4英寸以下各型基片的曝（pù）光，也適合易碎（suì）片如砷化（huà）鉀、磷化銦等基片的曝光以及非圓形基片和小型基片的（de）曝光。 主要（yào）由防震工作台、LED專用曝（pù）光頭、氣動係統、電氣控製係統、真空管路係統、直聯式真空泵及附件箱等組成。

曝光頭（tóu）及部件圖

主要（yào）功能特點

Φ100mm以下，厚度(包括非圓形基片

2. 結構穩定

有真（zhēn）空掩膜版架、真空片吸盤。

本設備操作簡單，調試、維護、修理（lǐ）等都非常簡便。  

采用進口電磁閥、按鈕、定時器；采用獨特的氣（qì）動係統、真空管路係統和精密的機（jī）械