G-31B4型高精密光刻機（jī）

產品介紹：

設備概述

本設備（bèi）廣泛用於各大、中（zhōng）、小型企業、大專院校、科（kē）研單位（wèi），它主要用於中小規模集成電路、半導體元器件、光電（diàn）子器件、聲表麵波器件、薄膜電（diàn）路、電力電子器件的研製和生產。

主要構（gòu）成 本設備為（wéi）板板對準雙麵曝光CCD顯微顯示係（xì）統、二台高均勻性曝光頭、Z軸升降（jiàng）機構（gòu）、真空管路係統、氣路係（xì）統、直聯式真空泵、二級防震工作台（tái）等組成。

1.適用範圍廣
適用於φ100mm以下（xià）、厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的對準曝光，雙麵可同時曝光，亦可用於（yú）單麵曝光。

2.結構穩定
Z軸（zhóu）采用滾珠直進式導軌和可實（shí）現硬接（jiē）觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機構，真空吸版，防粘片機構。

3.操作簡（jiǎn）便
X\Y移動、Q轉（zhuǎn）、Z軸升降采用手動方式（shì）；
吸（xī）版、反吹采用按鈕方式，操作、調試、維護、修理都非常簡便。 4. 可靠性高

精密的機（jī）械零件，使本機運行具有非常高的可靠性。
    除標準（zhǔn）承片台外，還（hái）可以（yǐ）為用戶定製專用承片台，來解決非圓形基片、碎片和底麵

曝光類型：版
曝光麵積：≤±3%
曝光強度：
曝（pù）光分辨率：2台GCQ350W型**壓（yā）直流球形（xíng）汞燈高均勻性曝光頭

對準範圍：2μm

Q向旋轉調節≤

CCD係（xì）統，物（wù）鏡10X，計算機圖像處理（lǐ）係（xì）統，
掩模版尺寸：能真空吸附4"方形掩板，對版的厚度（dù）無特殊要求（1～3mm皆可）。

<span style="line-height:150%;font-family:;" "=""> 基片尺寸：適用於Φ3"mm圓形基片（piàn）（或3"×3"mm方形基片），基片（piàn）厚度≤5mm。