G-33E6型高精密光刻機（jī）

產品介紹：

設備概（gài）述

本設備廣泛用於各大（dà）、中、小型企業、大專院校、科研單位，主要用於集成電路、半導體元器件、光電子器件、光學器件研製（zhì）和生（shēng）產,由於本機找平機構（gòu）**，找平力小，使本機（jī）不僅適合矽片（piàn）、玻璃片、陶瓷片的曝光，而且（qiě）也適合易碎片如砷化鉀、磷化銦等基片的曝光, 這是一（yī）台雙麵對準單麵曝（pù）光的光刻機,它不僅（jǐn）能完成普通光刻機的任何工作,同時還是一台檢查雙麵對準精度的檢查儀。

主要構成

主要（yào）由高精度對準（zhǔn）工作台、雙目分離（lí）視場立式顯微鏡（jìng）或雙目分離視場臥式顯微鏡、數字式攝像頭、計算（suàn）機成（chéng）象記憶係統、6″高均勻性蠅（yíng）眼專用曝光頭、

主要功能特點

采用版不動，片動的下（xià）置（zhì）式三層導軌對準方式，使導軌（guǐ）自（zì）重和受力方向保持一致，自動消除（chú）間隙（xì）；承片台升降采用無間（jiān）隙滾珠直進導（dǎo）軌、氣動式

4.可靠性高
采（cǎi）用PLC控製、進口（日本產（chǎn））電磁閥和按鈕、獨特的氣動（dòng）係統、真空管路係統和經過精密（mì）機械製造工（gōng）藝（yì）加工的（de）零件，使本機運行具有非常高的可靠性且操作、維護、維修簡便。

5. 特設功能
 除標準承片台外，我公司還可（kě）以為用戶定製專用承片台，來解決非圓形（xíng）基片、碎（suì）片和底麵不平的基片造（zào）成的版片分離不開所引起的版片（piàn）無法對準的問題。

（1）高均勻蠅眼曝光頭。

a.高壓球形汞燈；

b.曝光麵積：150mm×150mm；

c.曝光強度：≤20mW/cm²汞（gǒng）燈（進口）；

d.光（guāng）源平行性：≤3.5°；

e.照明不均勻（yún）性： ±3%（ Φ100mm範圍）；±4%（Φ150mm範圍）；

g.套刻精度（dù）：1μm

(2)觀察係統為上下各兩個無級變倍、高分辨率單筒顯微鏡上裝四個CCD攝像頭通過視屏線連接計算機到19″高清液晶顯視屏上。

a. 單筒顯微鏡為1.6X～10X連續變倍顯微鏡；

b. CCD攝像機靶麵對角線（xiàn）尺寸為：1/3″；

c. 采用19″液晶監視器，其數（shù）字放大倍率為（wéi）19÷1/3=57倍；

d. 觀（guān）察係統放大倍數為：1.6×57=91倍（放小（xiǎo）倍數）

 10×57=570倍（放大倍數）；