設備概述:

 本設備是我公司根據市場需（xū）求研發（fā）的產品，其突出的特點是曝光（guāng）麵積大，通常情況下為Φ4"，對被光刻基片的外形、厚度要求較低，可對多種材料的基片進行光刻，它特（tè）別適用一次（cì）光刻的產品，可製作聲表麵器件、可控矽、小液晶顯示器、傳感器（qì）、二極管、園光柵、編碼盤等，按用戶（hù）要求可提供圓形承片台或（huò）方形承片台,承片台都能實現“真空密著”曝（pù）光，加之光均勻性（xìng）好（Φ100mm範圍內≤±3%），所（suǒ）以大大提高光刻質（zhì）量。

主（zhǔ）要構成
主要（yào）由防震工作台、高均勻性4"蠅眼曝光頭、氣動（dòng）係統、電氣控製（zhì）係統、真空管路係統、直聯（lián）式真空泵（bèng）及附件箱等組成。

主要功能特點（diǎn）

1.適用於5mm以（yǐ）下的各種基片（piàn）)的一次曝光。

2.本設（shè）備（bèi）配置有（yǒu）可實現真空硬接（jiē）觸、軟接觸、微力接（jiē）觸的真空密著機構；具

3. 操（cāo）作簡便

4. 設備（bèi）運行穩定、可靠

5. 特設功能

主要技術（shù）參數：

1、曝光麵積（jī）：Φ4"，配置4"蠅眼（yǎn）專用曝光頭

2、實現“真空密著”曝光，（通過調整真空度能實現硬接（jiē）觸、軟接觸或微力接觸曝光）。但基片厚（hòu）度≤2mm。

3、曝光*小分辨率為2μm。

4、可以為用戶製作具有預定位機構（gòu）的（de）專用承片台，片對版（bǎn）的預定位精度≤±0.1mm。

5、曝光頭用燈為<span style="font-size:16px;line-height:150%;font-family:;" "="">GCQ350Z型高壓水銀直流汞，光強（qiáng）≤10mw/cm²，光的不均勻性在Φ100mm範圍內≤±3%，可以通過調節曝光頭（tóu）光柵來改變（biàn）光強。