G-43Y6型高精密單麵（miàn）光（guāng）刻（kè）機

產品介紹：

設備概述:

本設備是我公司根據市場需求研發的產品，通常情況下基片尺寸為：Φ6"，對被光（guāng）刻基片（piàn）的外形（xíng）、厚度要求較低，可（kě）對多（duō）種材料的基片進行光刻。它（tā）特別（bié）適用進行一次光刻的產品,可製作聲表麵器件、可控矽、小液晶顯示器、傳感器、二極管、園光柵、編（biān）碼盤等。按用戶要求可提供圓形承片台或方（fāng）形承片台,不管哪一種承片台，都能實現“真空（kōng）密著”曝光,加之光均勻性好（hǎo），所以（yǐ）大大提高光刻質量（liàng）。 <span style="font-family:;" "="">
主要由防震工作台、高均勻性6"蠅眼曝光頭（tóu）、氣動係統、電氣控製係統、真空（kōng）管路係統、直聯式真空泵及附件箱等組成。

  適（shì）用於<span style="font-size:16px;font-family:;" "="">Φ6"以下，厚度(包括非圓形基片（piàn）
  2. 結（jié）構（gòu）穩定（dìng）

有真空掩膜版架、真空片吸盤（pán）。

本設備操作簡單，調試（shì）、維護、修理等都非（fēi）常簡便

采用（yòng）進（jìn）口電磁閥、按鈕、定時器；采用獨特的氣（qì）動係統（tǒng）、真空管路係統和精密的機（jī）械零件，使本機具有非常高的可靠性。

除標準承片台外，還可以為用戶定製（zhì）專用承片台，來解決非圓形基片、碎片和底麵不平的基片造成的版（bǎn）片分離不開所引起的版片（piàn）無法對準（zhǔn）的問題<span style="font-size:12.0pt;font-family:;" "="">

主要技術參數：

1、操作方式：手（shǒu）動。

2、曝光模式：接觸式曝光（guāng）。

3、曝光麵積曝光麵積：150mm×150mm。

4、紫外光源（yuán）：g線（436nm）和i線（365nm）

5、實現“真空密著”曝（pù）光，但基片厚度≤2mm。

6、分辨率：Φ100mm範圍內≤2um

7、照（zhào）明不均勻（yún）性： ±3%（ Φ100mm範圍）；±5%（ Φ150mm範圍）；

8、曝光光源（yuán）：350W汞（gǒng）燈（進口（kǒu））；

9、曝光強度：≤20mW/ cm²

10、光源平行性：≤3.5°；

11、樣品尺寸：Φ150mm。