G-43B9型高精密光（guāng）刻機

產品介紹：

設備概述:

本設備是我公司根據市場需求研發的產品（pǐn），其*大特點是曝光麵積極大，通常情況下為：Φ9"，對被光刻基片的外形、厚度要求較低，可對多種材（cái）料的基片進行（háng）光刻，它特別適用一次光刻的產品，可製作聲表麵器（qì）件（jiàn）、可控（kòng）矽、小液晶顯示器、傳感（gǎn）器、二極管、園光柵、編碼盤等（děng），按用（yòng）戶要求可提供圓形承片台或方形承片台，不（bú）管哪一種承片台（tái）都能實現（xiàn）“真空密著”曝光，加之光均勻性好（hǎo）（Φ200mm範圍內≤±6%），所（suǒ）以大大提（tí）高光刻質量，我公司還可根據用戶要求，在G-43B9型光刻機外加（jiā）裝對準設置，以進行版對片的精密對準曝光。

主要構成

1.適（shì）用範圍廣
適用於Φ200mm以下、厚度：5mm以下的（de）各種基片(包（bāo）括非圓形基片)的一次光刻。
2.結構穩（wěn）定
本設備配置有可實（shí）現真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機構；配置有真空掩膜版架、真空片吸盤。
3.操作簡便
本設備操作簡單，調試、維護、修理等都非常簡便。
4.設備（bèi）運行穩定（dìng）、可靠
采用進口電磁閥、按鈕、定（dìng）時器；采用獨特（tè）的氣動係統、真空管路係統（tǒng）和精密的機械（xiè）零件（jiàn），使本機具（jù）有非常高的（de）可（kě）靠性。
5.特設功能（néng）
除標準承片台外，還（hái）可以為用戶定製專用承片台（tái），來解決非圓形基片、碎片和底麵不平的基片（piàn）造成的版片分離不開所引起的版片無法對準的問題

主（zhǔ）要技術（shù）參數：

1、曝光麵積Φ9"。

2、曝光*小分辨（biàn）率為3μm。

3、可以為用戶（hù）製作具有預定位機構的專用承片台，片對版的預定位精度≤±0.1mm。

4、曝光（guāng）頭用燈為GCQ350W型**壓直流球形汞燈，光強≤3.5mw/cm²，光的不均勻性在：Φ200mm範圍內≤±6%。

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