G-43D4型高（gāo）精密單麵光刻機（jī）

產品介紹：

設備概述（shù）:

本設備是我公司（sī）根據市場需求研發的產品，可（kě）以（yǐ）光刻Φ4"以下基片，對被光刻基片的外（wài）形、厚度（dù）要求較低，可對多種材料的基片進行光刻。它特別適用進行一（yī）次光刻的產品,可製作聲表麵器件、可控矽、小液晶顯（xiǎn）示器、傳感（gǎn）器、二（èr）極管、園光柵、編碼盤等。按用戶要求可提供圓形承片台或（huò）方形承片台,不（bú）管哪一種承片台，都能實現“真空密著”曝光,加之光均勻性好，所以大大（dà）提高光（guāng）刻質量。

曝光頭及部件圖

-主要構成
主要由防震工作台、高均勻性<span style="font-family:" font-size:16px;"="">LED4"專用曝光頭、氣動係統、電（diàn）氣控製係（xì）統、真空（kōng）管（guǎn）路（lù）係統、直聯式真空泵及（jí）附件箱等組成。

主要功能特點

Φ100mm以下，厚度(包（bāo）括非（fēi）圓形基片

 

有真空掩膜版架、真空片吸盤。    3. 操作簡便  本設備操作簡單，調試、維護、修理等（děng）都非常簡（jiǎn）便。    4. 設備運行穩定、可靠  采用（yòng）進口電磁閥、按鈕、定時器；采用獨特的氣動係統（tǒng）、真空管路係統和精密的（de）機械

  的基片造成（chéng）的版片分離不開所引起的版片（piàn）無法對準的問題<span style="font-family:;" "="">

主要技（jì）術參數（shù）：

1、操作方式：手動。

2、曝光模式：接觸式（shì）曝光。

3、曝光麵積：Φ4"，配置4"LED專用曝光頭，紫外光源壽命≥2萬小時

4、紫外光源：365nm。

5、實現“真空密（mì）著（zhe）”曝光，但基片厚度≤2mm。

6、分辨率：2um

7、 光的不（bú）均（jun1）勻性：≤±3%；

8、樣品尺寸：Φ100mm。

9、曝光強度：0～30mw/ cm²可調（diào）（此指標用紫外光源I線365nm測（cè）量）。