G-43D6型高精密單（dān）麵光刻機

設備概述:

本設備是我公司根據市場需求研（yán）發的產品，可以光刻Φ6"以下基片，對被光刻基片（piàn）的外形、厚度要求較低，可對多種材料的基片（piàn）進（jìn）行（háng）光刻。它特別適用進（jìn）行一（yī）次光刻的產品（pǐn）,可製作聲表麵（miàn）器件、可控矽、小液晶顯示（shì）器、傳感器、二極（jí）管、園光柵、編碼盤等。按用戶要求可提供圓形承片台或方形承片台（tái）,不管哪（nǎ）一種承片（piàn）台，都（dōu）能實（shí）現“真空密著（zhe）”曝光,加之光均勻性好，所以大（dà）大提高光（guāng）刻質量。

曝光頭及部（bù）件圖

主要構成<span style="font-family:" font-size:16px;"="">主要由防震工（gōng）作台、高均勻性6"

1.適用範圍廣
      適用於Φ6"以（yǐ）下，厚度5mm以（yǐ）下的各種（zhǒng）基（jī）片(包括非圓形基（jī）片)的一（yī）次曝（pù）光。
      2.結構（gòu）**
     本設備配置有可（kě）實現真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機構；具有真空掩膜版架（jià）、真空片吸盤。
      3.操作簡便
     本設備操作簡單，調試、維護、修理等都非常簡便。
     4.設備運行穩定、可靠
     采用（yòng）進口電磁閥、按鈕、定時器；采用（yòng）獨特（tè）的氣動係統（tǒng）、真空管路係統（tǒng）和精密的機械零件，使本（běn）機（jī）具有（yǒu）非常高的可靠性。
     5.特設功能
     除標準承片台（tái）外（wài），還可以為用（yòng）戶定製專（zhuān）用承片台（tái），來解決非圓形基（jī）片、碎片和底麵不平的基片造成的版片分離不開所引起的版片（piàn）無法對準的問題

主要技（jì）術參數：

1、操作方式：手動。

2、曝光模式：接觸式曝光（guāng）。

3、曝光麵積：Φ6"，配（pèi）置6"LED專用曝光頭，紫外光源壽命≥2萬小時

4、紫外光源：365nm。

5、實（shí）現（xiàn）“真空密著”曝光，但（dàn）基片厚度≤2mm。

6、分辨率（lǜ）：2um

7、光的不均勻性：≤±3.5%；

8.樣品尺（chǐ）寸：Φ150mm。

9、曝光強度：0～30mw/cm²可調（此指標用紫外光（guāng）源I線365nm測量（liàng））