光刻機（Mask Aligner）是製造微機電、光（guāng）電、二（èr）極體大規模集（jí）成電（diàn）路的關鍵設備（bèi）。其分為兩種，一種是模板與圖樣大（dà）小一致（zhì）的contact aligner，曝光時模板緊貼晶圓；另一種是利用類似投影機原理的stepper，獲（huò）得（dé）比模板更小的曝光（guāng）圖樣。接下來小編就給大（dà）家介紹一下四川光刻機的種類一起來看看吧。

a.接（jiē）觸式曝（pù）光（Contact Printing）：掩膜板直（zhí）接與光刻膠層接觸。曝光（guāng）出來的圖形與掩膜板上的（de）圖（tú）形分辨率相當，設備簡單。接觸式，根據施加力量（liàng）的（de）方式不同又（yòu）分為：軟接觸，硬接觸和真空接觸。

1.軟接觸 就是把基片通過（guò）托（tuō）盤吸附住（類似於勻膠機的基片放置方式），掩（yǎn）膜（mó）蓋在基片上麵；

2.硬接觸 是將基片通過一個氣壓（氮（dàn）氣），往上頂（dǐng），使之與掩膜接觸；

3.真空接觸 是在掩膜和基片中間抽氣，使之更（gèng）加好的（de）貼合（想（xiǎng）一想把被子（zǐ）抽真空放置的方式）

軟<硬<真空 接觸的越緊密，分辨（biàn）率越高，當然接觸的越（yuè）緊密，掩膜（mó）和材料的損傷就越大。

缺點：光刻（kè）膠汙染掩膜板；掩膜（mó）板的磨損，容易損壞,壽命很低（隻能使（shǐ）用5～25次）；容易累積缺陷；上個世紀七十年代的工業水準，已經逐漸被接近式曝光方式所淘汰了，國產光刻機均為接觸式曝光，國產（chǎn）光刻機的開發機構無法提供工（gōng）藝要求更高的非接觸式（shì）曝光的產品化。

b.接近式曝光（Proximity Printing）:掩膜板與光刻膠基底層保留一個微小的縫隙（Gap），Gap大約為0～200μm。可以有效避（bì）免與光刻膠直接接觸而引起的（de）掩膜（mó）板損傷，使掩膜和光刻（kè）膠（jiāo）基底能耐久使用；掩模壽命長（可提高10 倍以上），圖（tú）形缺陷少（shǎo）。接近式（shì）在現代光刻工藝中應用非常廣泛。

c.投影（yǐng）式（shì）曝光（Projection Printing）:在掩（yǎn）膜板與光刻膠之間使用光學係統聚集光實現曝光。一般掩膜板的（de）尺寸會以需（xū）要（yào）轉移圖形的4倍製作（zuò）。

優點：提高了分（fèn）辨率；掩膜板的製作更加容易；掩（yǎn）膜板上的缺陷影響減小。

以上內容就是小編給大家介紹（shào）的四川光刻機的種（zhǒng）類，希望對大家有所幫助。成都鑫南光機械設備有限公司專業提供在微電子工藝生產方麵使用的（de）多種型號光（guāng）刻機；在真空釺焊、陶瓷金屬化、燒氫退火工藝等方麵使用的各型（xíng）真空爐、氫（qīng）氣爐；在零件真空幹燥（儲存）櫃、真空鍍膜機等設備的設計和製造（zào）方麵，公司均有自（zì）己獨（dú）特的專長。