四川光刻機是（shì）由哪些部（bù）分構成的？**鑫南光為您揭開這個謎底！

激光器：光源，光（guāng）刻機核（hé）心設備之一。

光束矯正器：矯正光束入射方向，讓激光束盡量平行。

光束形狀設置：設（shè）置光束為圓型、環型等不同形狀，不同的光束狀態有不同的（de）光學特性。

遮光器：在不需要曝光的時（shí）候（hòu），阻止光束照射到矽片。

能量控製器：控製*終照射到矽（guī）片上的能量，曝光不足或過（guò）足都會嚴重影響成像質量。

能（néng）量探測器：檢測光束*終入射能量是否符合曝光要求，並反饋給能量控製器進行（háng）調整。

掩膜台：承載掩模版（bǎn）運動的設備，運動（dòng）控製精度達到納米級。

掩模版：一塊在內部刻著線路設計圖的玻璃板，貴的要數十萬美元。

物鏡：物（wù）鏡由 20 多塊鏡片組成，主要作用是把掩膜版上（shàng）的電路圖按比例縮小，再被激光映射的矽片上，並且物（wù）鏡還要補償各種光學誤差。技術難度就在於物鏡的設計難度大，精度（dù）的要（yào）求高。

量台、曝光台： 承載矽片的工作台， 一般的光刻機需要先（xiān）測量，再曝光，隻需一個（gè）工作台，ASML 的雙工作台光刻機則可以（yǐ）實現一片矽片曝光同時另一片（piàn）矽片進行測量和對準工作，能有效提升工作效率。

內部封閉框架、減振器：將工作台（tái）與外部（bù）環境（jìng）隔離，保持水平，減少外界振動幹擾，並維持穩定的溫（wēn）度、壓力（lì）。

四川光刻機仍在不斷的進步發展（zhǎn），滿足更高性能、更低成本芯片的生產需求。