光刻機是芯片製造重要的設備（bèi）之（zhī）一。目前（qián），ASML壟斷了全**的高（gāo） 端光刻機。中國一直以來都想掌握光刻機技術，但是上海微電子經過17年（nián）的努力，才造出90nm的光刻機，這已經十分不容易了，這可是0的突破。那麽為什麽光刻機這麽難造呢？

首先，光刻機分（fèn）為光刻機分為前道光刻（kè）機、後（hòu）道光刻機等。前道光刻（kè）機就是大家熟（shú）知的ASML的光刻機，用於芯片製造。後道光刻機主要用於芯片封裝，上微目前在後道光刻機上已經達到了**主流技術水準，而前道光刻機，也就是大家所熟悉的ASML光刻機，這才（cái）是難度非常的光刻機。2002年，上海微電子裝（zhuāng）備公司總經理（lǐ）賀榮明（míng）去德國考察時，有工程師告訴他（tā）：“給你們全套圖紙，也做不出（chū）來。”

賀榮明幾（jǐ）年後理解了這句話。光刻（kè）機，被稱為現代光學工業之花，其製造難度之大，堪稱人類智慧集大成的產物。光刻機跟（gēn）照相機差不多（duō），它的底片，是塗滿光敏膠的矽片。電路圖案經光刻機，縮微投射到底片，蝕刻（kè）掉一部分（fèn）膠，露（lù）出矽麵做化學處理。製造芯片，要重複幾十遍（biàn）這（zhè）個過程。

位於（yú）光刻機中 心的鏡頭，由20多塊鍋底大的（de）鏡（jìng）片串聯組成（chéng）。鏡片的高純度透光材料+高質量拋光。SMEE光刻機使（shǐ）用的鏡片，得數萬美元一塊。ASML的鏡片（piàn）是（shì）蔡司技術打底。鏡片材質做到均勻，需幾十（shí）年到上百年技術積澱。“同樣一個鏡片，不同工人去磨，光潔度相差十倍。”SMEE總經理賀榮明說，賀榮明（míng）在（zài）德國看到，拋光鏡片的工人，祖孫三代在同一家公司的同一個職位（wèi）。

除此之外，光刻機需要體積小，但功率高而穩（wěn）定的光（guāng）源。ASML的**光刻機，使（shǐ）用波長短的極紫外光，光學係統極複雜。有（yǒu）..的鏡（jìng）頭和光（guāng）源，沒**的機械精度，也是白搭。光刻機裏有兩個（gè）同步運動的工件台，一個載底片，一個（gè）載膠（jiāo）片。兩者需始終同步，誤差在2納米以下。兩個工作台由靜到動，加速度跟導彈發射差不多（duō）。SMEE非常的光刻機，包含（hán）13個分係統，3萬（wàn）個機（jī）械（xiè）件，200多個傳感器，每一（yī）個都要穩定。這些上微都很難達到。

除此之（zhī）外，英（yīng）特爾、三（sān）星、台積電等半導體巨頭都會給予ASML資金還要（yào）技術支持，像有一年，英特爾、台積（jī）電、三星等彼此競爭的三（sān）大巨頭（tóu），竟聯袂投資ASML41億、8.38億、5.03億歐元。如今，ASML研發經費倍增到每年十三億歐元的規（guī）模。多出的一倍，ASML自己出一半，三大半導體巨頭（tóu）合出另一半。

而技術支持，現任台積（jī）電研發副總（zǒng）、**微影技術權威林本堅，在當時力排眾議，認為將市麵既有的193nm微影透過水（shuǐ）折射，效果可較當時被期待接棒的157nm為佳。ASML也迅速呼應（yīng）台積電，一年後，推（tuī）出****台以水為介質的浸潤式微影實驗（yàn）樣機。該技術大受歡迎，迅速成為業界（jiè）主流，日本的（de）Nikon與佳能（néng）投入巨資研（yán）發的157nm微影技術，竟從此被擱（gē）置。自此Nikon與佳能再也無法與ASML在高 端光刻機上競爭。

另外（wài），ASML還有很多研發夥伴，包括（kuò）荷蘭的大學、歐洲研究機構。這樣IMEC可以用很（hěn）低的價格，拿到ASML.新的機台；而ASML也可以借此提前（qián）了解下一代（dài）晶片技術（shù）的（de）需求，形成了一個良好（hǎo）的合作循環。這些都是上海微電子所不具備的（de），先不提國外對91视频网站的技術封鎖，就目前91视频网站也無法將設（shè）備做到如此精細（xì），而且91视频网站（men）的大學研究機構在半（bàn）導體領域也（yě）偏薄弱，無法提供有效（xiào）的技術支持。

好了（le），關於光刻機的知識小編就給大家介紹到這裏了。成都鑫南光機械設備（bèi）有限公司專（zhuān）業提供在微電子工藝生產方麵使用的多種（zhǒng）型號光刻機（jī）；在（zài）真空釺（qiān）焊、陶瓷金屬化、燒氫退火工藝等方麵使用的各型真空（kōng）爐、氫氣爐；在零件真空幹燥（儲存）櫃、真空鍍（dù）膜機等設備的設計和製造方麵，公司均有自己獨特的專長。