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科技日報:國產22納米光刻機治不了咱們的“芯”病(bìng)!

發布時間: 2020-06-20 來源:

18年11月29日(rì),中科院(yuàn)研製(zhì)的“超(chāo)分辨光刻裝備”通(tōng)過驗收。消息傳著傳(chuán)著,就成了謠言(yán)——《國產(chǎn)光刻(kè)機偉大突破,國產芯片白菜化在即》《突(tū)破荷蘭技(jì)術封鎖,彎道超車》《厲害了(le)我的國,新(xīn)式光刻機(jī)將打破“芯片荒”》……

筆者正好去中科院光電所(suǒ)旁聽此(cǐ)次驗收會,寫了報道,還算熟悉,無法苟(gǒu)同(tóng)一些漫無邊際的瞎扯。

中科院研製的(de)這種光刻機不能(像(xiàng)一些網媒說的)用來光刻CPU。它的意義是用便宜(yí)光源實現較高的分辨率,用於(yú)一些特殊製造場景,很經濟(jì)。

先解釋下(xià):光刻機不光是製造芯片用。一張平麵(不論矽片還是什麽材料)想刻出繁(fán)複的圖案,都可以用光刻——就像照相,圖像投在感光底片上,蝕掉一部分(fèn)。半個多世紀前,美國人用這個原理“印刷”電路,從而有了大規模集成電路——芯片(piàn)。

為了節能和省矽料,芯片越做越小,逼得光刻機越做越極端。線條(tiáo)細到一定程度,投影就模(mó)糊了。要清晰(xī)投影,線條粗細不能低於光(guāng)波(bō)長的一半。**光刻機用波長13.5納米的(de)極紫外光源(yuán),好刻(kè)10納米以下的線條。

但穩定的、大功(gōng)率的極紫外光源(yuán)很難(nán)造,一個得3000萬元人民幣。要(yào)求工作環境嚴苛,配合的光學和機械部件又(yòu)極端精(jīng)密,所以荷蘭的ASML公司**壟斷(duàn)極紫外(wài)光刻機,創造(zào)了“一台賣一億美金”的神話。

光刻機

十(shí)幾年前(qián),**上開始(shǐ)對表麵(miàn)等離子體(surface plasma,SP)光刻法感(gǎn)興(xìng)趣。中科院光(guāng)電所從2003年開始研究,是較(jiào)早出成果的一個團隊。所謂SP,光電所的(de)科學家楊勇向筆者解釋(shì):拿(ná)一塊金屬片和非金屬片親密接觸,界麵上有一些(xiē)亂蹦的電(diàn)子;光投影在金屬上,這(zhè)些電子就有序地震蕩,產生波長幾十納米的電磁波,可用來光刻。

但這(zhè)種電(diàn)磁波很弱,所以(yǐ)光刻膠得(dé)湊近了,才(cái)能刻出來。且加工精度與ASML的光刻機沒法(fǎ)比。刻(kè)幾十納米級的芯片是(shì)沒法用SP光刻機的,至少(shǎo)以現在的(de)技術不能。

驗收會上(shàng)也有記者(zhě)問:該光(guāng)刻設備能(néng)不能刻芯片,打(dǎ)破國外壟斷?光電(diàn)所**回答說,用於芯片需要攻克一係列技術(shù)難題,距離還很遙遠。

總之,中科(kē)院的22納米分(fèn)辨率光刻機跟ASML壟斷的光刻機不是一(yī)回事,說前(qián)者彎道超車,就好像說中國出了個競走名將(jiāng)要超越(yuè)博爾特。

各家媒體**時間報出的信息,就我看到的還算中(zhōng)規中矩。但後來網(wǎng)媒添枝加葉(yè),搞到離譜。有些(xiē)傳播者為吸引眼球、賺(zuàn)錢,*愛(ài)製造“自嗨文(wén)”和“嚇(xià)尿體”。聽到國(guó)產科技成就先往大裏吹,驢吹成馬(mǎ),馬吹成駱駝,好(hǎo)賣個(gè)駱駝價。

這種“科(kē)技報道(dào)”是滿足虛榮(róng)心的(de)偽新聞。行家聽(tīng)了眉頭一緊,避之大吉。也難怪許多科學家怕上(shàng)新聞(wén)。

——轉載自人民網

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