**91视频网站跟著（zhe）成都鑫南光機械設備有（yǒu）限公司一起來了解四川光刻機的種（zhǒng）類。

a.接觸式曝光（Contact Printing）：掩膜板直接與（yǔ）光刻膠層接觸。曝光出來的圖形與掩膜板上的圖形分辨率相當，設備簡（jiǎn）單。接觸式，根據施加力量的方式不同又分為：軟接觸，硬接觸（chù）和真空接（jiē）觸。

1.軟接觸 就是把基片通過托盤吸附住（zhù）（類似於勻膠機的基片放置方式（shì）），掩膜蓋在基片上麵；

2.硬接觸 是將基片通過（guò）一個氣壓（氮氣），往上頂，使之與掩膜接觸；

3.真空接觸 是在掩膜和（hé）基片（piàn）中間抽氣，使之更加好的貼合（想一想把被子抽真空放置的方式）

軟<硬<真空 接觸的越緊密，分辨率越高，當然接觸的越緊密，掩（yǎn）膜和材料的損傷（shāng）就越大。

缺點：光（guāng）刻膠汙染（rǎn）掩膜板（bǎn）；掩膜（mó）板的磨損，容易損壞（huài）,壽命很低（隻能使用5～25次）；容易累積缺陷；上個世紀七十年（nián）代的工業（yè）水準，已（yǐ）經逐漸被接近式曝光（guāng）方式所淘汰了，國產光刻機均為接觸式曝光（guāng），國產光刻機（jī）的開發機構無法提供工藝要求更高的非接觸式（shì）曝光的（de）產品化。

b.接（jiē）近（jìn）式曝光（Proximity Printing）:掩膜板與光刻膠基底層保留一個微小的（de）縫隙（Gap），Gap大約為0～200μm。可以有效避（bì）免與光刻膠直接接觸而引起的掩膜板損傷（shāng），使掩膜和光刻膠基底能耐久使用；掩（yǎn）模壽命長（可提高10 倍以上），圖形缺陷少。接近式在現代光刻工藝中應用（yòng）*為廣泛。

c.投影式曝光（Projection Printing）:在掩（yǎn）膜（mó）板與（yǔ）光刻膠之間使用光學（xué）係統（tǒng）聚集光實現曝光。一般掩膜板的尺寸會以需要轉移圖形的4倍製（zhì）作。優點：提高了分辨率；掩（yǎn）膜板的製作更加容（róng）易；掩（yǎn）膜板上的（de）缺陷影響減小。

投影式曝光（guāng）分類：

掃（sǎo）描投影曝光（Scanning Project Printing）。70年代末～80年代初，〉1μm工藝；掩膜板1：1，全（quán）尺寸；

步進重複投影（yǐng）曝光（Stepping-repeating Project Printing或（huò）稱作Stepper）。80年代末～90年代，0.35μm（I line）～0.25μm（DUV）。掩（yǎn）膜板縮小比例（4：1），曝光（guāng）區域（Exposure Field）22×22mm（一次曝光所能覆蓋的區域）。增加了棱鏡係統的製作難度（dù）。

掃描步進投影曝光（guāng）（Scanning-Stepping Project Printing）。90年代末～至今，用於≤0.18μm工藝。采用6英寸的（de）掩膜板按照4：1的比例曝光，曝光區域（yù）（Exposure Field）26×33mm。優點：增大了每次曝（pù）光的視場；提（tí）供矽片表（biǎo）麵不平整的補償；提高整個矽片的尺寸均勻性。但是，同時因為（wéi）需要反向運動，增加了機械係統的精度（dù）要求。

原來四川光刻機的種類都有那麽多。